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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"* z9 c8 N# B1 v; F# u
這種架構就類似於Diode-connected Transistor
8 Q3 R" J% x0 L+ a- ~% |( u; `二極體接法形式的電晶體7 I9 ~3 Z* i& z( d" n- t
這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值
, V. w3 C/ T! h+ E& T; {6 `但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"
6 S* O5 J* p) M公式的表示方法也不一樣
7 p6 F2 {2 q5 e$ I0 A! ?0 `操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的
( d+ U: L, R( _' {) R. a: T& R- F- N6 `2 a
而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起$ ], ?$ N, U. {" f
利用P-N junction的特性而已
9 ^0 D0 |' h3 |
- E9 R( x2 m) E- O6 A! G所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction+ Y0 F1 N+ a# B$ a' H
應該也會跟BJT做出來的有類似的效果, x' M5 F% m% Y& i; L- }
/ B2 L2 \. r- l! L% K
但是何者較穩定就不保證了
: F5 |, ^" d9 f, i( [' l" a3 R
: m$ f% {5 o9 d. y! V' [因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference- B; W8 C6 Y. r) |, ]( [8 H
它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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