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經濟部技術處ITIS計畫王惠芳 ! M; M) m- t5 @# ~
一、前言
' X: J: d s! i" ~光阻經由照射之後,會產生化學反應,再經由顯影(Developing)的製程將圖案定義在基材上,目前常用的顯影液為TMAH(Tetra methyl ammonium hydroxide) 氫氧化四甲基銨,化學式為(CH3)4NOH。經照射後因照射區與非照射區在顯影液中溶解度不同,顯影液可將易溶的部份溶解,而達顯影的目的,當光阻為正型時,照射區產生化學反應,主鍵斷鍵並發生極性變化,非照區則不易溶解於顯影液中,溶解速率可達十倍以上,負型光阻則是照射區產生交連,不易溶解於顯影液中,與正型光阻之反應相反。顯影液(Developer)為TMAH原液與超純水稀釋後所製成之產品,產品純度由TMAH原液以及超純水品質決定,為此超純水的製造以及TMAH原液製造方法的不同,將影響製品品質之純度,因此,目前的供應來源仍以國外技術來源居多。g-line、i-line以及DUV光阻所需的顯影液普遍是2.38%TMAH(統稱NMD-3),特殊需求會再做客製作的調整或是面板廠內部自行調整。7 L7 j1 n/ p( W$ e, G4 Q. Q, ^
二、日本與台灣IC顯影液需求
3 R L d/ w4 p; s日本國內主要是三大公司瓜分,東應化TOK、多摩化學以及日本德山Tokuyama各佔有三分之一的市場,提供給IC半導體用的數量為6000噸,市場約為日幣17億元,這三家供應商同時也是LCD顯影液的主要供應來源。+ d3 q6 {" { |! }( g% \
供應給IC顯影劑的廠商也是以東應化TOK,多聯,日本德山Tokuyama為主,其中以TOK市佔率最高,佔有50%以上的市場。2006年顯影劑市場需求約有40000噸,市場值在12.1億左右,預估2007年隨著12吋晶圓擴廠,需求跟著上升,預估成長10%左右。 3 @6 H8 B: m* f
表一 2006年日本及台灣顯影劑的市場規模 , l3 L$ W2 ^& L' L1 U9 [
區域 | 濃度基礎 | 需求量(噸) | 需求值 | 國內/國外供應商 | 日本 " ]) \1 B: e) p" H& F; l2 g# h
| ~20% 3 b% f4 b Q6 c+ @) m
| 6000
0 x7 b% j. @7 D5 A | 日幣17億元 + v. K2 [4 l; r, n) S
| TOK,多摩,Tokuyama | 台灣
& L0 A8 u) I5 X- f* x& ]+ X) b | 10~25% 4 q0 e; k2 f8 W+ _& Y2 U: V
| 40000
6 q4 A, w+ Y* K: o6 z5 Q | 台幣13億元
4 ^1 T# t. b! R" B0 y$ E | TOK,多聯,Tokuyama |
* o# |! {1 Z- L9 A+ J資料來源:富士經濟2007/03;工研院IEK2007/08
% Y/ m3 H) y+ F5 Y- P由於顯影液的需求量大,單位售價也較光阻低,競爭激烈,因此供應商考量成本以及直接供應國內面板廠,普遍皆在國內設立製造廠,或與本土業者合作生產。TOK與長春化學技術合作,生產化學品供應半導體及光電產業,多聯由三聯科技與日本多摩化學(TAMA)合資成立,跨國合作成立專業化學廠,日本德山Tokuyama則在台灣尚無技術合作夥伴。5 N( O m! c+ h# Z
國內本土產業投入製作顯影液,一方面需投入高成本購買純化設備,另一方面須有自己的專利技術,再加上目前每公斤單價以相當低廉,須有足夠的資源及技術,再投入會比較合適些,最合適的策略就是與國外知名大廠進行技術合作,既有成熟技術為後盾也既有客源,屬WIN-WIN的合作模式。
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