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經濟部技術處ITIS計畫王惠芳
- x5 H8 p- w' [% K4 O一、前言
' t+ }7 f8 c2 v$ v+ t+ Q6 h光阻經由照射之後,會產生化學反應,再經由顯影(Developing)的製程將圖案定義在基材上,目前常用的顯影液為TMAH(Tetra methyl ammonium hydroxide) 氫氧化四甲基銨,化學式為(CH3)4NOH。經照射後因照射區與非照射區在顯影液中溶解度不同,顯影液可將易溶的部份溶解,而達顯影的目的,當光阻為正型時,照射區產生化學反應,主鍵斷鍵並發生極性變化,非照區則不易溶解於顯影液中,溶解速率可達十倍以上,負型光阻則是照射區產生交連,不易溶解於顯影液中,與正型光阻之反應相反。顯影液(Developer)為TMAH原液與超純水稀釋後所製成之產品,產品純度由TMAH原液以及超純水品質決定,為此超純水的製造以及TMAH原液製造方法的不同,將影響製品品質之純度,因此,目前的供應來源仍以國外技術來源居多。g-line、i-line以及DUV光阻所需的顯影液普遍是2.38%TMAH(統稱NMD-3),特殊需求會再做客製作的調整或是面板廠內部自行調整。
6 S% r, F+ u1 R3 m二、日本與台灣IC顯影液需求
' x0 d: ~+ h% U, [0 f: g日本國內主要是三大公司瓜分,東應化TOK、多摩化學以及日本德山Tokuyama各佔有三分之一的市場,提供給IC半導體用的數量為6000噸,市場約為日幣17億元,這三家供應商同時也是LCD顯影液的主要供應來源。, w! [8 J4 l" a: a4 ?# m: G
供應給IC顯影劑的廠商也是以東應化TOK,多聯,日本德山Tokuyama為主,其中以TOK市佔率最高,佔有50%以上的市場。2006年顯影劑市場需求約有40000噸,市場值在12.1億左右,預估2007年隨著12吋晶圓擴廠,需求跟著上升,預估成長10%左右。 " N0 n P9 Z$ W/ l
表一 2006年日本及台灣顯影劑的市場規模 6 n3 x* x5 V3 q/ \, k% ?
區域 | 濃度基礎 | 需求量(噸) | 需求值 | 國內/國外供應商 | 日本
7 t) q" D y& q | ~20%
/ B2 }+ }& l( h& e1 C | 6000 - g0 M+ ?$ j- J x8 M0 v& x" ]& y
| 日幣17億元
9 b$ e2 S. F" [1 E; o8 M | TOK,多摩,Tokuyama | 台灣
9 U6 d; v" u4 p' V | 10~25%
, u6 G! V& S) x3 ?8 ~* c; k. b | 40000
1 Z, U. n; \, j' l | 台幣13億元
8 {1 e- C; }% @( H+ L% F | TOK,多聯,Tokuyama |
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資料來源:富士經濟2007/03;工研院IEK2007/087 k8 ^+ g8 K. O( w1 M- i+ a- [
由於顯影液的需求量大,單位售價也較光阻低,競爭激烈,因此供應商考量成本以及直接供應國內面板廠,普遍皆在國內設立製造廠,或與本土業者合作生產。TOK與長春化學技術合作,生產化學品供應半導體及光電產業,多聯由三聯科技與日本多摩化學(TAMA)合資成立,跨國合作成立專業化學廠,日本德山Tokuyama則在台灣尚無技術合作夥伴。9 G6 G8 Z8 v4 }6 o6 q
國內本土產業投入製作顯影液,一方面需投入高成本購買純化設備,另一方面須有自己的專利技術,再加上目前每公斤單價以相當低廉,須有足夠的資源及技術,再投入會比較合適些,最合適的策略就是與國外知名大廠進行技術合作,既有成熟技術為後盾也既有客源,屬WIN-WIN的合作模式。 |
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