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[問題求助] 關於PowerMos的Layout

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1#
發表於 2007-7-5 01:55:46 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
小弟近來有個專案是做DC to DC Convertor的Layout
, U6 E. ]/ D: c: W裡面主要有一顆PowerMos Size W/L=8000/0.3
4 J% q# M, x7 W6 A2 P% m據聞Lay PowerMos主要就是Latch Up及ESD的問題
+ q% ~; _) u4 Y所以想請教一下有Lay過PowerMos的各位前輩能否指導小弟一下,1 J, I6 ]1 ?" p( |
或有參考的資料可供參考,謝謝~~
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2#
發表於 2007-7-5 09:22:11 | 只看該作者
Power MOS 這東西!!  只有靠經驗!!
9 l' G. ]2 m. Z- H8 _7 ^* l要 ESD 好就只有拉寬 Drain 端的 layout!!  --> Rdson 就會變的很差!!$ k+ t4 D0 k) x/ X
這是要 trade off 的!!  所以只有靠經驗!!
+ D% I  \2 h. S7 p有一個  比較好的方法就是!!" g  K5 e) j% U( k0 C. S
多做一下  ""反向工程"" 看看人家賣的產品是如何 layout 的!!! g, `2 o! d+ l& y% y  q  C$ ?
這是一個  很好的學習經驗!!

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SMT1Q2W + 5 Good answer!
小朱仔 + 2 感謝大大經驗分享!

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3#
發表於 2007-7-10 17:16:34 | 只看該作者
SOURCE端CONTACT TO POLY距離與DRAIN端CONTACT TO POLY距離
- H+ c2 W: `4 L0 I$ b要比基本CELL拉遠些,要多遠靠製程上的經驗值,因為MOS已經很大了無法
0 B4 x& ]9 ~5 ?2 ]/ E& }依照ESD RULES下去劃,另外考慮的是劃FINGER或是井字型,再來考慮是最
7 B; p5 h* z9 E8 @3 a上層METAL如何舖設,有PMOS和NMOS的話要考慮兩者間的LATCH-UP問題,
) e! _( O* h7 }. N* o* x( uPNMOS距離拉遠加DOUBLE RING.

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sjhor + 3 言之有物!

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4#
發表於 2007-7-13 13:43:46 | 只看該作者

回復 #1 小朱仔 的帖子

powerMOS我有處理過9 q: X, E4 b+ b3 D; L: ^
如果size還可以接受的話,最好就是用ESD rule畫,0 k% d& o2 C9 S1 v* L) N
這必須要跟designer討論,/ H. m' w! R# C2 |/ K, e$ L8 W7 K7 Y
如果可以這樣子實現的話,) ?. P- z) b# Y( J& j0 I
那ESD跟latch up protect就一定沒問題5 l% G% v) D) P% s. K( i; b: X
也就不用擔心了
- o' ]& c6 k5 d, K( y1 F不過如果限制於面積大小,
: @* M$ F8 `" \* m那也可以把source跟drain的距離拉小一點,
2 }) H/ n' s: H) N' G甚至如果有rpo的也可以拿掉,# Q/ [7 F- X# j* V0 V, D3 `, p
因為畢竟不是像PAD裡面要做ESD protect5 j2 c0 B/ N( e5 f7 k0 }& ~! f
總之就是如果designer同意的話,3 _& `' y% t3 y) t4 E
討論之後就可以偷一點,只是看要怎麼偷,/ ~# y* ^, Z1 h- i
方法都差不多那樣+ D$ R2 G# `: P5 n' G' i

+ _# i* L! @! y9 D5 T1 I0 X不過畫powerMOS除了MOS的架構以外,
4 U2 a; H5 `. F) y/ R$ Y最需要注意的就是要可以meet design端的current density,7 k, L; e7 \- q
這也有關於整個powerMOS array的floor-plan.: m4 Y) A: R5 o3 g
因為你在問題裡沒提到,所以我另外提一下, e! I3 ?7 \! f5 ?: K1 P" ?

; A- I0 ^4 @5 u- ]: {. ~- ]小弟的淺見啦~~
, P7 N( x/ w, S" H4 |1 [如果有不對的地方還請各位先賢指教!

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小朱仔 + 2 感謝大大經驗分享!
mt7344 + 5 回答詳細

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5#
發表於 2007-7-16 16:22:57 | 只看該作者
ESD 部分是不用擔心的,因MOS很大,大量電子進入時則會' ~1 B' [* n6 q7 Y. D9 q9 f
很快四處洩放掉,而latch up部份只要P和Nmos 間有Dobule* t5 r: C- L+ p; \
gardring 則可避免了,就這麼簡單,給大家參考.......
6#
發表於 2007-7-21 08:33:55 | 只看該作者
原帖由 小朱仔 於 2007-7-5 01:55 AM 發表 : y+ `+ M; \' U9 ^& k1 c0 V# \6 A
小弟近來有個專案是做DC to DC Convertor的Layout! e  [, x+ c& i4 I! i+ r3 @
裡面主要有一顆PowerMos Size W/L=8000/0.3- i9 J/ l& f. V  A; N1 B) M. C
據聞Lay PowerMos主要就是Latch Up及ESD的問題
5 u' [: p- {; @+ h所以想請教一下有Lay過PowerMos的各位前輩能否指導小弟一下,: M) r, s; X: C
或 ...

' C5 b3 D) O/ z. j
% M% e! V  ^3 t  J
- k5 @8 y7 F$ |% o
1 D+ J2 E: |) m/ ]. \$ h% }latch up較好解決在device layout周圍畫上double guard ring。) a) ~$ a2 m" P3 P& S- ~( }$ f
而ESD問題一般Source端的Contact只要照rules即可,而Drain端contact則大約是source端的2-3倍。也可套用foundary之models,不過空間會較大。5 S% L. r- y* j+ @9 I7 \
另外W/L中L=0.3um國內之high voltage tech.,應該沒有相關製程,因為國內之技術較弱,高壓製程高階技術尚待建立。
7#
發表於 2013-1-31 14:58:23 | 只看該作者
劃井字形~* z/ s5 }" R4 B; c7 z' G' m/ |
poly的L劃0.3, P6 X/ }# c0 h2 [+ g
lvs的結果L會變大~6 b" g% t; f. l$ \$ Q: ~6 G2 a
顆數越多會越大w1000~L就大到0.33...多! ]2 E8 \/ {3 W+ ~* o/ ?
這樣lvs怎麼驗證都不對!
8#
發表於 2013-12-17 17:31:37 | 只看該作者
回復 7# bowbow99 ( l( c) G- \* Z

2 g8 u' I, A  l* {# Z
2 q+ q; [# k; J! |, m7 U    多出來的是交叉處,(紅色圈圈),所造成的,要在驗證上忽略掉

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x
9#
發表於 2014-3-7 13:15:37 | 只看該作者
受益匪淺。。。。。。。。
10#
發表於 2014-4-23 16:48:15 | 只看該作者
power mos 在esd性能上还要考虑均匀性,如走线的均匀;source/drain cont的处理,drain加ballst 电阻等。可以看看esd的书籍。
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