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有一本書我覺得蠻不錯的
- F) L8 l2 j# ^8 Q+ O+ H3 `+ q# `原文跟中文書都有 也是大部分技術學院大三大四7 ]* R* ? {0 `
會使用的 半導體製程概論 教材 t0 g7 R; o( N% b
看完這本再去看 莊達人的 VLSI 製造技術, 高立出版 : `9 Z8 Y& g9 C% T, P% z, {% u
整個製程概論應該就會蠻了解 (莊達人這本跟施敏的半導體元件物理幾乎每個固態組的學生都會買) ], \! G0 \: ^9 a3 ?
, d* k( M+ |$ R& l- \7 BIntroduction to semiconductor manufacturing technology4 I& R# w, J: A2 A
半導體製程技術導論8 e) [6 z$ f7 g* K4 S$ g4 h- F. R, \
原著 Hong Xiao
; m1 u; b% c9 O; r譯者: 羅正忠 張鼎# t) \0 H8 k6 A% e
" ^5 k' }& p8 I9 O
以下簡列書的目錄
% x& M: f. p! \$ Z8 g+ u% tCh1 導論! P3 B5 a. S$ [5 g6 n
Ch2 積體電路生產的簡介
! S) H9 ^+ C7 U: ?Ch3 半導體的基礎0 @1 k* m. r. K8 k) M6 G1 ?
Ch4 晶圓製造: [5 m) K8 G+ a4 R
Ch5 加熱製程2 l% S1 s5 |8 _+ u0 k# Y6 Q
Ch6 微影技術
$ J% l- g& P$ tCh7 電漿的基礎原理+ F1 \! Y5 Y! [1 h+ A# v
Ch8 離子佈植
m; ]# [- [" L, a8 \0 {! P* c/ sCh9 蝕刻
- |3 t0 s$ A9 l+ HCh10 化學氣相沉積與介電質薄膜
2 K& \$ a( J _8 T' p8 [3 w0 t! W0 ACh11 金屬化製程' ` r' Q' U: Y
Ch12 化學機械研磨$ l+ E' b3 d5 k4 W& z( p$ y* F% W" W
Ch13 製程整合
" i& i' V2 x/ G* C5 _0 R5 gCh14 CMOS製程$ L: H( a) K T" [6 J- I4 h8 s
7 t9 p7 {& ]! F3 v這些都是基礎 到了公司學到的 不同公司的製程 對各個Layer的命名方式都會有所不同! P; B( C! a. Q! z
學習這些基本理論的原因 是要培養 你對整個半導體 從最底層到最高層一個建構剖面圖的觀念# J9 I" b/ |8 l
用什麼製程技術產生Oxide做隔離 用什麼製程技術做成Channel 3 x! R; L: }7 b# h$ _
怎麼樣做出濃度不同的diffusion, 寄生BJT或Diode又是怎麼形成的等等
n! @; I) J0 a$ o# q: N8 o& N* s5 i1 c2 F/ C" c
在這邊比較可惜的是 以前的交大NDL有 半導體製程的教學網頁 會把0.35um的製程從第一個步驟介紹的最後一個步驟
# Z# L# M7 G0 e都是用動畫的方式來呈現 對當時還在唸大學的我非常有幫助, 不過現在好像找不到這個網頁了 殘念
$ C7 m3 a, ~# d) [" Y1 Q) S/ i; | ?) Z: ?: @ c/ R$ q7 C
[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-2-4 10:49 PM 編輯 ] |
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