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以Mask而言,Diffusion layer 的製造順序比PLY前面,wafer) s, v+ l' K( h5 ? m! P
不能hold在此時,在tape out經常在最後關頭要換 ROM CODE的
, J' I/ H5 r5 j6 d# _# C3 D0 rproject,選用Diffusion ROM是很不智的。
, P' C4 R& k3 m' Z1 @但他有面積小、速度快的優點。
3 r! q0 V& e* _
9 x! }: h. _4 O a7 N; i7 z另,Diffusion ROM不是只有控制Vt的方式可以達成。控制Vt的
- R" S, i% q+ ]2 K4 b8 U- Z% A2 r1 N方式通常有patent保護,自己要design時候要特別注意,也要看
/ `& _" v0 A0 R# Q1 O# U8 _6 O1 w你要投的fab有沒有支援此process。
, @& L. w0 O0 E7 f- |5 A. s. v, \9 Z3 Q" X# Q$ F2 V
Via layer 的優缺點跟Diffusion layer的相反。* c6 j8 j9 y( x/ b3 D
: U9 T1 V8 ]+ F7 L; T1 d" ]
[ 本帖最後由 teaman 於 2008-9-29 01:54 PM 編輯 ] |
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