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以Mask而言,Diffusion layer 的製造順序比PLY前面,wafer# H" G* ?, D5 y
不能hold在此時,在tape out經常在最後關頭要換 ROM CODE的/ [0 b) Z. ^; }
project,選用Diffusion ROM是很不智的。
( Y1 W( T- J; G但他有面積小、速度快的優點。
0 ]2 q4 l, |0 D# U, A+ Z5 t
) Q* O/ M: r4 e1 y# S, ^另,Diffusion ROM不是只有控制Vt的方式可以達成。控制Vt的
! [9 O, c' A. ? v3 B% A方式通常有patent保護,自己要design時候要特別注意,也要看
* [2 q0 P9 e! z' U5 r你要投的fab有沒有支援此process。7 B2 ~" H" d# l- U7 x
& |+ K8 r/ A+ ?! ?Via layer 的優缺點跟Diffusion layer的相反。+ }+ @& c/ G+ C e( |2 P
6 X: }- a) J; s- x[ 本帖最後由 teaman 於 2008-9-29 01:54 PM 編輯 ] |
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