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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?
# p% B. \9 n* G0 e0 B" Z请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!
# `4 x8 ~/ |( a) H% S有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm+ {3 T0 r2 {  Y/ P) \" [' D
如果會超過' C; [4 U; T/ F
那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
' o" M7 O! S( i! @7 L4 s8 H2 f超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪- C% r- x7 B6 f3 z* t/ t8 d* U

1 N: U7 Q5 X7 ?[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080 " U* `7 V9 m" y" A
0 Y6 S  n) \' D: R, L) ~, j
5 A& w, Y) `6 E% O; w# @% T
   
$ A# E1 h1 Z8 h" s, `) X 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
  A% s6 ?0 ^, S# j0 ~7 z很可能打坏core里的device。8 M0 O* C" h; s+ C4 \$ ?
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
  J1 b7 |. \# U" i5 w: l超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...' A# p) Y( V& Q. f! L
scy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM

/ r! Z3 z: Q2 B
8 p. e  a  m. t6 }- Y2 ]
$ R" b# w; C. \8 nI/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
4 w# z+ {5 g1 K2 e5 A) V很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
) s4 B( O* j5 Y) ?来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...
) M9 z5 l) Q4 z# F3 \2 W% t# {scy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
3 h; X  N/ o9 p2 q" f: A
0 I2 x+ L2 k$ Z7 s$ h% s' r
拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),
) {9 O' x0 Y9 I1 U其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管
: H9 }9 M6 n" V/ J(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多6 l3 j; H/ D5 o; N: m
npn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,3 c% n# u- w! b( x: {5 d$ P: ^
必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小
- p5 O7 }' o- d( F暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!( X9 `& I* D# ^7 w& [2 x' @
讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多
2 X6 q3 g7 p9 b! ?) B9 i
# I: s- H1 p9 Y7 m. \2 f8 y1 L謝謝大大的分享!!!!
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