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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?' T+ Q0 u1 E* S/ e  ^  \& [
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!9 ]- ?2 p! Q6 M7 J& _' R& p2 y
有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm% `1 r# c, z6 f# X# L6 k
如果會超過
& q5 S8 i) x9 I& A那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
* r0 D& k8 a$ y" D7 H超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪
, X0 E! J/ T' z5 t" ]$ j5 k. ^
) |/ B) |. o+ q[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080 0 ~0 w2 O  S5 |
2 U2 M* K" s9 d1 t6 z+ Z' d1 `

" B* F$ S  d7 @" V" u2 e6 X   
) b: F; c$ Z5 P6 [$ e 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候7 \% Z+ b7 R/ I% N' ~  v
很可能打坏core里的device。# B5 `2 G  u. w! Z, H7 R: M
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
) T0 J) V+ o& A8 Q% I# M8 {& ~: _超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...
/ ?' t& @/ O# ?4 hscy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM

  H- f3 J  N& `, V8 _
$ M4 o) q( q! I( P3 I; C4 s5 X  m
5 u* E* h3 u- V8 w  {! M2 DI/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是5 ]8 }" Z" G3 T! I
很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积$ @+ V) M' U# H& A( v
来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...& j8 F3 i1 |. {$ R; f
scy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
3 z6 w7 t7 Q$ H6 t4 c/ F0 t
# S6 a! t3 w: l; Z; ^! D& r; u
拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),* W, i0 X' j4 W# G( ]  W
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管) e# E& v# ~( i, O$ A5 C6 m
(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多9 m& a( Y$ g) r' N, B- L7 n
npn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
, r3 A9 r, j  e1 x( a$ ~3 ^, K  Q必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小/ C& k( V* N  u% G7 Y$ z" J
暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!
$ Y8 n3 X* v2 H& ]& W2 i* f1 b讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多) O& Q% R' l! A9 P& Y9 w

: S  A" w8 A/ J. w: l3 l2 K/ E謝謝大大的分享!!!!
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