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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?/ T* V( l4 o/ d1 z: Y3 U) e
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!
8 D/ O. {6 {0 A9 L2 h( I5 U! ~有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm
2 B- T" e% l9 Z, i7 b' x如果會超過- O. `% b% k4 u! ?7 @( ~1 m+ A3 ^% d9 P
那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢8 B) L4 {0 o% q, h
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪
& F0 L& @" r& M5 [7 l- L$ y( y" U2 G% j$ L( Q
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080
7 x  i+ T/ s/ w& L
& B: w! S* g; h2 x/ @) D- m7 A: ~8 D, R' u$ }5 S# Y! W" q
   4 A9 T; T4 u2 j" E
 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
1 s, B) @- z1 e+ M很可能打坏core里的device。
3 Q  C; [( Y8 @* \3 B 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢- B) L% B- P2 ?) O4 b2 \! F+ k% ^! G
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...
5 s- k9 A+ w8 I- H5 Kscy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
! R" {: _. k6 t* x; R4 E
/ e% H2 ^1 s' C( I! H/ `! W3 F

( c8 O) K; i+ t2 b% xI/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
- |( T/ l! ~: f9 N# o8 d* y很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
8 \8 H. h; b4 w6 d; K来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...
7 t2 `, {) ^/ E* y9 V: mscy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM

9 B) g: a3 ^* L1 h, f1 X% e+ L2 Q3 j3 ^) x$ k+ y' \$ ?' F
拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),9 E5 g# t0 C7 u3 O) p
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管0 @# g& q+ V* I9 }! @* _# E* \
(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
$ l, Z$ T8 e. ]) k5 pnpn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
: c% W% P. |. m6 N# Z, I必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小8 u/ m9 U. y; j3 ^0 g$ J# l3 v
暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!8 K0 B9 h: l% k! Y
讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多
$ F! M8 |+ F" L" P5 X9 ^0 o+ m6 h  |. p' z
謝謝大大的分享!!!!
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