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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?
" Z& _. p$ n' R& f0 U+ B4 S* j请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!
# Q' F7 w2 E" ?8 V5 ~有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm
9 H  f$ w9 S9 F6 T如果會超過/ {" x2 a8 d% E( D
那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
! o: x) Y, P) V* y9 Y超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪
: P4 |4 F$ N$ e6 M9 w" D' b) L7 g, `% `3 {" g$ ^
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080
* @8 H6 g8 [: Z# s' d& |  n9 C- a8 F. A# k! C" w5 B
5 t4 W" [1 d4 \0 J
   ' h: T, u0 G. \9 F
 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
: R7 E6 y; \" r- o很可能打坏core里的device。
# f6 d: F# p3 y# G8 }# [! @ 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
# C% k" r" a0 H. C  i0 {% w4 `6 ]3 u超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...
5 ?% l" C+ j  Q1 a1 Y9 V( zscy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM

+ F( [  P5 K9 @0 A1 N6 s& V+ @: I

/ N9 o4 A+ ?) p! Y8 B8 P8 qI/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是" l' }+ O( X! P7 ?. g" d
很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积& ?; K! w3 Q# O! T, D. F; @
来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...; g* U; P7 R4 a. R1 [3 }5 }
scy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
4 i' ~7 D) ~3 X' z. n* I, G* a

. y1 U& H. C; N拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),  S& A6 V: _$ G0 A
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管) W. @1 r% T  h9 a
(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多0 Z' k  s1 S9 l; ]* f4 z( h. f
npn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
$ B  ]/ I8 t# n6 E- {. c必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小
  \/ T9 Y# E. _- b, ]) G暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!
8 b! _2 `( C9 s( F# B讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多- u3 ~3 Y8 F8 M& m' p) {

" j' e8 m# B" K謝謝大大的分享!!!!
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