＊工研院最新課程＊7/6 LED磊晶及MOCVD設備技術與專利分析

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【LED關鍵製程、設備與量測技術系列課程】
單元一: LED磊晶及MOCVD設備技術與專利分析

(台北班)

■ 課程簡介　　
台灣LED產業結構中在生產製造部份已相當的完整，但關鍵材料與生產設備仍多仰賴進口，LED結構通常以MOCVD設備進行量產，但缺乏設備廠商支援，使我國LED產業難以維持競爭優勢。MOCVD磊晶需具備多方面知識備景，同時MOCVD參數多樣將影響 Run機成果，本課程介紹MOCVD磊晶設備原理，同時介紹目前業界對 LED於磊晶可能面臨相關問題，及磊晶設備技術發展趨勢作一探討。對於目前三大MOCVD設備廠家(Aixtron、VEECO、Nippon Sanso) 之反應室設計、氣體引入設計、基板加熱與轉動設計、系統及基板傳送設計、氣體流量控制設計、檢測設備等分類進行設備專利地圖分析，另外也對於各種不同MOCVD設備作說明。
■ 課程目標　
透過LED 磊晶設備技術發展趨勢說明，可以了解台灣LED產業結構、關鍵材料、專利分佈、MOCVD設備原理。
■ 課程特色
MOCVD設備趨勢圖、國內外設備技術差異、MOCVD設備專利功效矩陣圖、MOCVD設備模擬分析


■ 課程大綱

一、LED製程與設備產業趨勢

全球LED製程與設備產業發展現況
台灣LED製程與設備產業發展現況
LED製程與設備產業發展趨勢與關鍵議題
二、LED 磊晶設備技術發展趨勢

LED之發展趨勢與推動策略
磊晶製程設備專利說明
MOCVD設備技術
三、MOCVD設備技術與專利分析

MOCVD設備開發關鍵議題及影響分析
降低磊晶變異之熱流場穩定控制技術


■ 課程日期
101年7月6日（五） ， 09：30～16：30，共6小時。
■ 上課地點
台北市中正區館前路49號。（實際地點依上課通知為準）
■ 報名方式
線上報名http://college.itri.org.tw/SeminarView1.aspx?no=23120858&msgno=309424　，或請將報名表傳真02-2381-1000