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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?) k8 M& b4 Z) w' Z
再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?
, {" D8 G" V2 ~6 E知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯
3 ]/ o1 G5 t& b' G. V7 U4 {5 N( |5 {+ h2 K% \- h. `3 G! H$ l
如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。7 o5 A) P4 i1 l
會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。( h4 |$ j% `5 y" J  y& ]' D6 S
* `0 x/ W7 [) L
S/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外
$ B7 r, V) _( [也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。# `1 g* k6 H0 C6 W5 A+ O8 f- {5 P/ m' y

6 D- b% o7 j. Y; d+ [$ n" r1 W9 {這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...* ^4 J' Z! d9 Y6 r& @/ u( G
意思都差不多,我大概能了解了.../ O) R& C2 u( b4 }; O) k
至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?
7 S2 q+ u7 F! W* e  `6 ?謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB$ I- x1 h1 X, z, L, N
不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白' J1 s3 d9 x8 x. o8 z$ F
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,
* ^( A: j0 \7 K' B7 OSCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,. n7 S& @3 L* [, x& _1 Z4 h
有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?7 H+ N! N( i% [7 C  U* J
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次! m) v) M; f! {& a$ ]' `
看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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