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《從2D SOC看3D IC設計系列》唐經洲/張嘉華/吳展良著

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1#
發表於 2010-9-12 11:27:27 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
從2D SOC看3D IC設計─3D IC設計(I) 市場趨勢篇
. T) g3 Q7 j/ l9 a6 U( N
作者:唐經洲/張嘉華/吳展良著
年份:2010年 版
ISBN:9789866184116
書號:EE0371
規格:16開/平裝/單色
頁數:432
出版商:滄海書局
定價:$520元
線上價:$468元
4 J+ b# f! }& z" d. b7 [7 M8 i
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2#
 樓主| 發表於 2010-9-12 11:31:30 | 只看該作者
4 S8 t1 a. }2 ?1 L2 o7 E
消費性電子產品持續朝向小型化、高效能、高整合、低功耗及低成本方向發展,3D IC技術是目前唯一能滿足上述所有需求的關鍵技術。根據Yole Development預測,自2009至2012年,3D IC晶片市場的年複合成長率更將超過60%,3D IC晶圓的出貨量更將在2012年達到1000萬單位。台灣紮實的半導體製造能力和聚落環境,已經在2D IC產業和市場上創造成功的台灣經驗。
唐經洲! t/ p) ?1 R3 P
現任:南台科技大學 電子系 教授
* v; i. d" B" y- \/ M: L4 e學歷:國立成功大學電機所博士
- \* R( b1 E% j- d經歷:工研院晶片中心特助 (2008/8~2009/12),半導體產業推動辦公室副主任 (2009/01~2009/12),南台科技大學 電子系 主任(2001/07 ~ 2005/07),笙泉電子外部獨立董事(2010/07~)。* R$ o+ F8 [$ W8 m
研究興趣:低功率高速電路設計、數位電路可靠性設計、IDDQ 測試、深次微米電路後端設計流程整合、混合訊號電路佈局設計、單晶片微處理機/嵌入式系統、光學微影工程: (曝光梯度、光罩錯誤增強因子、製程視窗)、奈米製程光學鄰近補償 (OPC)、薄膜電晶體 LCD 測試樣本產生器設計、電子藝術、3D IC 整合、消費性電子產品創意設計。2 y  G; F4 ~+ N: e- f3 E
其他:相關學生專題:國內外獲獎超過49件、發表論文:期刊(23)/會議(76)、專利:5件(Filed) /9件(Apply)、出版圖書:8本、證照:5張、受邀演講:21場
; t6 b. {* t. u1 I1 t( `) e" K1 i" o" d+ S, s' H
張嘉華
! h. s! P" }& ~" ^2 I最高學歷:國立成功大學 工業暨資訊管理研究所 博士
) X) ?/ ^$ U% ?( r0 M現任:南台科技大學 管理與資訊系 助理教授3 {2 C, l% h3 ?
經歷:國立成功大學 附設空中商專 講師、南台科技大學 管理與資訊系 助理教授、南台科技大學 管理與資訊系 電子商務組組長、美國堪薩斯州立大學 工業與製造系統工程系 訪問學者: C1 ^& t( o6 X& V8 G( T
專長:供應鏈管理、 系統分析與設計、企業資源規劃系統、半導體市場分析與預測
, f( @+ B; w0 j0 @( m$ W5 c& n4 @  J
吳展良- R' \! C6 Y% A  B# ?
學歷:南台科技大學 電子工程系 研究所
/ e9 n/ G0 t; n. ]  E/ R現任:奇景光電股份有限公司 IC設計中心 大陸佈局課 副理' A6 f" ~$ {, ?
專長:HV、Mix-mode IC Layout、LCD display Driver IC Layout
$ H7 `- T* [' H: f  m經歷:2003/7任職奇景光電 佈局部 課長一職
2 z+ j. T( t% a2 U' o受邀演講:
1 {8 G& x/ w1 m# ?5 ]- A  M 2004/4半導體學院IC Layout座談會 (邀請單位台灣 成功大學/ 經濟部工業局)。
' S4 h  i4 A/ y9 j1 A3 \6 s 2005/4 科學工業園區人才培育補助計畫擔任IC Layout課程顧問(邀請單位 南台科技大學 電子系&經濟部工業局)。; o  U- Z$ o8 z. B* f
 2005/9 2005佈局技術研討會 演講 (邀請單位思源教育基金會/CIC/交通大學)。& n9 f* T4 o6 e4 ^. ?
 2006/4 半導體學院課程說明會 (邀請單位 工研院資通所),
' ~) S# w- ?! f9 W- g! H: l9 Z 2006/5 半導體人才需求以及設計領域課程規劃 (邀請單位 經濟部工業局)。
, ^3 d% o7 G4 ]8 c; n7 P# }7 x 2007/7積體電路佈局設計職能建構規劃會議 (邀請單位 經濟部工業局)。; _$ ]7 p- f9 X  K
 2007/6~8擔任半導體學院 IC Layout講師 (邀請單位 經濟部工業局)。
2 K2 F0 W4 i! U' K  X. `: H 2009/8 上海 SpringSoft Community Conference (SCC) 全球巡迴技術研討會,主講 Himax IC Physical design。
$ e8 z- `' ?( I% j( G 2010/1 成功大學/教育部顧問室 DAT 聯盟超大型積體電路可靠性設計課程推廣研討會 主講 積體電路實體佈局上的可靠度考量 。
2 r9 r, s% M: w 2010/6 PAL 聯盟、勤益科大。
1 P5 H  H  e8 Z. b1 f% ~; p% K 2010 年奈米佈局產學座談會,IC Physical Design 專業與附加價值。

5 f( p. ^+ ^7 e+ [1 簡介 (Introduction): h2 T# d+ s& e* H8 W8 C2 A, z
2 為何要用3D IC (Why 3D IC) ?
  E- i$ h2 ]8 b; H3 國際聯盟與發展藍圖 (Consortium & Roadmap)) ^% Y! ]! p4 Z) d/ U  c
4 市場與產品評估 (Market/Product Survey)9 z# J$ `% f* a. a8 D) I
5 同質整合設計 (Homogeneous Integration); n# o4 B; x. [* Z
6 異質整合設計(I) (Heterogeneous Integration (I)); L( m2 q6 U+ a. T2 }+ ~; V- y0 h: a
7 異質整合設計(II) (Heterogeneous Integration (II))
3#
 樓主| 發表於 2010-9-12 11:33:16 | 只看該作者
從2D SOC看3D IC設計─3D IC系列(II)製程技術篇
& W7 k% ~( B+ H, C4 a7 Z0 X
作者:唐經洲/張嘉華/吳展良著
年份:2010年 版
ISBN:9789866184130
書號:EE0372
規格:16開/平裝/單色
頁數:472
出版商:滄海書局
定價:$560元
線上價:$504元
1 S2 e& G: t: w& X: N3 }; d% {

0 |. |% ^: o. O7 \6 M: C
1 3D IC 製程技術概要 (3D IC Process Overview)
! C+ C, Z  |/ d* Y, J# O2 晶圓薄化製程 (Thin Wafer Process)5 A) q. I) D4 P- I* g; p, U7 B% K
3 晶圓鍵合 (Wafer Bonding)
4 f. f3 H: K2 i6 l6 g% O4 TSV
製程
(TSV Process)
( O: [  v  ]* A" B# F3 e5 X5 j5 3D IC
EDA
設計上的考量
  H8 {" _6 n& b: c% a6 供應鏈 (Supply Chain)" X, g& J& `6 \$ h5 {6 j
7 3D IC 的標準化問題 (3D IC Standardization)
+ x# v6 ~, V* R2 b8 迷思與挑戰 (Myth vs. Challenges)
4#
發表於 2010-10-28 11:32:22 | 只看該作者
It seems it is a good book to read.
5#
發表於 2021-10-20 13:21:30 | 只看該作者
謝謝分享^_^5 P. j$ Y) y+ f' \) t
謝謝分享^_^
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