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《從2D SOC看3D IC設計系列》唐經洲/張嘉華/吳展良著

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發表於 2010-9-12 11:27:27 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
從2D SOC看3D IC設計─3D IC設計(I) 市場趨勢篇5 h2 c" ~% ~: ^
作者:唐經洲/張嘉華/吳展良著
年份:2010年 版
ISBN:9789866184116
書號:EE0371
規格:16開/平裝/單色
頁數:432
出版商:滄海書局
定價:$520元
線上價:$468元
) x# g# n) H* l! L
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2#
 樓主| 發表於 2010-9-12 11:31:30 | 只看該作者

+ s4 o: c3 F! u+ e消費性電子產品持續朝向小型化、高效能、高整合、低功耗及低成本方向發展,3D IC技術是目前唯一能滿足上述所有需求的關鍵技術。根據Yole Development預測,自2009至2012年,3D IC晶片市場的年複合成長率更將超過60%,3D IC晶圓的出貨量更將在2012年達到1000萬單位。台灣紮實的半導體製造能力和聚落環境,已經在2D IC產業和市場上創造成功的台灣經驗。
唐經洲- v' n# D. I- m" x+ d- O% }
現任:南台科技大學 電子系 教授
1 L; Q8 [( D& Q. g' A- W5 j學歷:國立成功大學電機所博士
  C  k  X& T$ s/ q5 W' Q) h經歷:工研院晶片中心特助 (2008/8~2009/12),半導體產業推動辦公室副主任 (2009/01~2009/12),南台科技大學 電子系 主任(2001/07 ~ 2005/07),笙泉電子外部獨立董事(2010/07~)。
- T! D( ^& w1 G: h9 D研究興趣:低功率高速電路設計、數位電路可靠性設計、IDDQ 測試、深次微米電路後端設計流程整合、混合訊號電路佈局設計、單晶片微處理機/嵌入式系統、光學微影工程: (曝光梯度、光罩錯誤增強因子、製程視窗)、奈米製程光學鄰近補償 (OPC)、薄膜電晶體 LCD 測試樣本產生器設計、電子藝術、3D IC 整合、消費性電子產品創意設計。0 e) U6 j/ B) y+ D9 P
其他:相關學生專題:國內外獲獎超過49件、發表論文:期刊(23)/會議(76)、專利:5件(Filed) /9件(Apply)、出版圖書:8本、證照:5張、受邀演講:21場$ |/ z4 r) ]) n& k' U1 ~) t
+ x" x( f- y8 D) _) a% E8 s) g' d8 h
張嘉華
+ R6 U7 w! M* i8 S3 o7 _最高學歷:國立成功大學 工業暨資訊管理研究所 博士$ t7 U( j# c: D. `: z) `
現任:南台科技大學 管理與資訊系 助理教授
( O. T9 l' U0 g, s經歷:國立成功大學 附設空中商專 講師、南台科技大學 管理與資訊系 助理教授、南台科技大學 管理與資訊系 電子商務組組長、美國堪薩斯州立大學 工業與製造系統工程系 訪問學者
' q/ S/ O  _4 d, t# L0 i專長:供應鏈管理、 系統分析與設計、企業資源規劃系統、半導體市場分析與預測- `- v" S6 Z1 p, B; F4 s

5 H/ M9 X) U, J' o1 |1 n吳展良
7 ^2 }: A( p( H% A2 ~4 a學歷:南台科技大學 電子工程系 研究所7 W8 L! g2 G0 r. H! S$ T
現任:奇景光電股份有限公司 IC設計中心 大陸佈局課 副理
+ d& r/ C! |- P& g4 z專長:HV、Mix-mode IC Layout、LCD display Driver IC Layout
0 C2 w1 N4 E: y9 `: e經歷:2003/7任職奇景光電 佈局部 課長一職
- W+ f, D8 z+ u8 z' C6 m受邀演講:   `3 B$ H+ I" O7 w! U* S' `6 I5 I2 R
 2004/4半導體學院IC Layout座談會 (邀請單位台灣 成功大學/ 經濟部工業局)。
& i5 l) W4 L" t( g6 R 2005/4 科學工業園區人才培育補助計畫擔任IC Layout課程顧問(邀請單位 南台科技大學 電子系&經濟部工業局)。# z. b% r0 I( [( P1 s7 G8 D0 f
 2005/9 2005佈局技術研討會 演講 (邀請單位思源教育基金會/CIC/交通大學)。/ N& X8 x, i+ P4 x2 X) P4 F
 2006/4 半導體學院課程說明會 (邀請單位 工研院資通所),4 r+ ?# l0 G  S( r
 2006/5 半導體人才需求以及設計領域課程規劃 (邀請單位 經濟部工業局)。
! t. p' R6 B& q- }  k: b 2007/7積體電路佈局設計職能建構規劃會議 (邀請單位 經濟部工業局)。9 @" B, q8 h+ B% t
 2007/6~8擔任半導體學院 IC Layout講師 (邀請單位 經濟部工業局)。4 N3 v) C) Z+ P/ h
 2009/8 上海 SpringSoft Community Conference (SCC) 全球巡迴技術研討會,主講 Himax IC Physical design。
1 k( e3 o  L# ^' p1 ? 2010/1 成功大學/教育部顧問室 DAT 聯盟超大型積體電路可靠性設計課程推廣研討會 主講 積體電路實體佈局上的可靠度考量 。
: s5 y9 P# a, O; U: Z  x9 x- p 2010/6 PAL 聯盟、勤益科大。
6 n1 U" ]  ^; U, `; K* X 2010 年奈米佈局產學座談會,IC Physical Design 專業與附加價值。

9 @. ~6 t$ C. [: B0 e1 簡介 (Introduction)
' }  J$ M" r7 [6 L0 ~& |. ]) a* L  g5 A2 為何要用3D IC (Why 3D IC) ?
2 f( I/ F& [" k9 a7 a0 x+ w3 國際聯盟與發展藍圖 (Consortium & Roadmap)- M) P" f" v5 b. N
4 市場與產品評估 (Market/Product Survey)9 L. Z, S) t4 O7 l& [6 |0 I
5 同質整合設計 (Homogeneous Integration)
8 }8 B) h: C  j- `6 異質整合設計(I) (Heterogeneous Integration (I))
4 f- J* x4 O9 r, H7 異質整合設計(II) (Heterogeneous Integration (II))
3#
 樓主| 發表於 2010-9-12 11:33:16 | 只看該作者
從2D SOC看3D IC設計─3D IC系列(II)製程技術篇9 o4 |0 C% C- W0 h9 o
作者:唐經洲/張嘉華/吳展良著
年份:2010年 版
ISBN:9789866184130
書號:EE0372
規格:16開/平裝/單色
頁數:472
出版商:滄海書局
定價:$560元
線上價:$504元

0 U) y; b, c; v9 J0 E
) g/ o  D' W* ^, W
1 3D IC 製程技術概要 (3D IC Process Overview)
3 [0 j1 N' w- m5 X% N; c, P1 F) ]2 晶圓薄化製程 (Thin Wafer Process)
! Z0 [9 d/ }. ~* p3 晶圓鍵合 (Wafer Bonding)
8 z0 ]7 N' T) ?. i1 ?4 TSV
製程
(TSV Process)
' X7 e: K, D8 w5 3D IC
EDA
設計上的考量
1 h- c3 z0 \" w6 供應鏈 (Supply Chain)8 i+ K# _8 X5 W  x; m3 c
7 3D IC 的標準化問題 (3D IC Standardization)
& {* |6 z9 }3 J; m8 b3 M8 迷思與挑戰 (Myth vs. Challenges)
4#
發表於 2010-10-28 11:32:22 | 只看該作者
It seems it is a good book to read.
5#
發表於 2021-10-20 13:21:30 | 只看該作者
謝謝分享^_^3 p: F' P+ r4 V5 R  e, x6 f1 I7 C1 E! h
謝謝分享^_^
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