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科毅科技精密曝光機 黃光製程專用 市場評價高

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發表於 2010-5-19 07:37:51 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式

+ M4 ^6 }/ R: g0 P+ k1 X科毅推出半導體全自動光罩對準曝光機。科毅/提供
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【桃園訊】科毅科技為黃光製程設備及材料專業廠,產品有旋轉式光阻塗佈機、烘乾機、光罩對準曝光機、顯影機、蝕刻機、UV平行光源及4~32吋光罩等,另亦供應光罩及光阻劑、顯影、蝕刻等化學藥液,客戶涵蓋半導體、LED、LCD、觸控面板及太陽能領域。
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 樓主| 發表於 2010-5-19 07:37:58 | 只看該作者
科毅的光阻塗佈機及曝光機有手動及全自動多種機型,可依客戶的製程需求來設計。總經理林憲維表示,許多長期客戶重複下單,但科毅並不是依照之前的機台複製,而會視客戶不同階段的需求予以重新設計,以提升性能及產出,並能超越舊機台。! I0 H# P' x- l( }" e2 h! v

: M1 @4 ^) N1 M1 V4 ]/ v. N" l該公司今年來自LED及觸控面板的曝光機訂單大增,營收將呈倍數成長;年中將搬至楊梅幼獅新廠,設置無塵室及精密加工設備,大幅提升服務能量。林憲維表示,科毅擁有嫻熟關鍵技術及精通組裝的人力,為最大的資產,並深受客戶信賴。該公司除了曝光頭等關鍵元件採用原廠,整機自製率很高,在售後服務提供有力的後盾。
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# A$ u" |( x9 J) I3 l4 u該公司去年進行經濟部科專計劃,可望年中結案並推出新產品。以科毅的規模能夠得到政府上千萬經費挹注,協助先端技術研發,在業界並不多見,其卓越的實力不但提升企業形象,近年也吸引不少業界廠商主動上門。科毅科技網址:http://opto-equipment.etrading.com.tw
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 樓主| 發表於 2010-9-20 08:13:01 | 只看該作者
科毅科技10週年慶及楊梅新廠落成 通過主導性計畫結案審查,計畫成效獲肯定/ b8 }! a& G4 u& a2 v, x/ w. t) }

% K$ W. _' }+ d' ^: P【桃園訊】科毅科技9月22日舉行成立10週年慶及楊梅新廠落成典禮,總經理林憲維表示,9月9日已通過自動曝光機主導性計畫結案審查,計畫成效獲高度肯定,可謂三喜臨門,加上今年業績大幅成長,喜事再添一椿。
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  N7 Z3 p9 o) K- z3 |5 \科毅為黃光製程設備及材料專業廠,產品有旋轉式光阻塗佈機、烘乾機、光罩對準曝光機、顯影機、蝕刻機、UV平行光源及4~32吋光罩等,並供應光罩及光阻劑、顯影、蝕刻等化學藥液,服務半導體、LED、LCD、觸控面板及太陽能產業。4 |4 _7 C% C8 F4 F! D( H3 g) D

& h; d2 V) Y/ s" {8 Y其光阻塗佈機及曝光機有手動及全自動多種機型,可依製程需求設計。林憲維表示,許多長期客戶重複下單,但科毅並不是依照之前的機台複製,而是視客戶不同階段的需求重新設計,提升性能及產出,超越舊機台。% y5 R2 z+ ~2 m, d' N" ?2 R
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該公司今年來自LED及觸控面板的曝光機訂單大增,營收倍數成長。因應業務擴大需求,9月遷至楊梅幼獅新廠,設置無塵室及精密加工設備,大幅提升服務能量。
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 樓主| 發表於 2010-9-20 08:13:07 | 只看該作者
該公司去年執行經濟部自動曝光機主導性計畫,日前圓滿結案並順利推出新款先進曝光設備。該公司的規模能得到政府上千萬元經費挹注,協助先端技術研發,在業界並不多見,其卓越實力不但獲得各界肯定,設備開發與製造的能力也隨之升級,吸引業界廠商主動洽詢或下單。9 R( I% y6 Z! H4 m" @* M: S

7 Y$ w8 H  F+ P4 ]& G$ A" e8 B科毅掌握的關鍵技術與專利有:1.具有可分別三軸調整之雙影像擷取裝置之曝光機;2. 曝光機之對準定位裝置;3.可發光輔助校準之定位裝置,均已取得台灣及中國專利。在雄厚的研發能量下,多項產品皆已全面升級為全自動操作,貼近客戶高產量的需求,比國際大廠擁有更高的性價比。另外,由於與金屬中心合作開發互動良好,金屬中心同意將用於全動曝光機的影像精密對位開發之專利授權予科毅公司,新款的自動曝光機,將具有更多的智權保護與競爭優勢。
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7 T. z5 ~! {1 y; g科毅已在LED創下亮麗成績,以封裝前段製程為主的半導體領域,亦獲得日月光及台積電等大廠採用,高聚光太陽客戶有禧通、穩懋等。目前客戶群LED及半導體約各佔6成及3成比重,其他為LCD、高聚光太陽能及微機電。, m% D5 q; L+ L  L* n

( G( m" @: Z  b) i2 G科毅曾與工研院、台大及成大合作,強化客製化能力。為催促國內第一台自主開發的晶圓級全自動曝光機的誕生,2008年起與金屬中心密切合作,2009年共同執行經濟部主導性新產品計畫,順利於今年開發國內第一台IC封測廠晶圓級全自動曝光機,軟體與系統整合能力更上層樓,此設備也順利投入國內某晶圓封測廠生產線,見證國人先進設備的開發製造技術,邁入嶄新的歷史新頁。
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