該公司去年執行經濟部自動曝光機主導性計畫,日前圓滿結案並順利推出新款先進曝光設備。該公司的規模能得到政府上千萬元經費挹注,協助先端技術研發,在業界並不多見,其卓越實力不但獲得各界肯定,設備開發與製造的能力也隨之升級,吸引業界廠商主動洽詢或下單。9 R( I% y6 Z! H4 m" @* M: S
7 Y$ w8 H F+ P4 ]& G$ A" e8 B科毅掌握的關鍵技術與專利有:1.具有可分別三軸調整之雙影像擷取裝置之曝光機;2. 曝光機之對準定位裝置;3.可發光輔助校準之定位裝置,均已取得台灣及中國專利。在雄厚的研發能量下,多項產品皆已全面升級為全自動操作,貼近客戶高產量的需求,比國際大廠擁有更高的性價比。另外,由於與金屬中心合作開發互動良好,金屬中心同意將用於全動曝光機的影像精密對位開發之專利授權予科毅公司,新款的自動曝光機,將具有更多的智權保護與競爭優勢。 8 x$ ?9 g5 C+ Y! [ 7 T. z5 ~! {1 y; g科毅已在LED創下亮麗成績,以封裝前段製程為主的半導體領域,亦獲得日月光及台積電等大廠採用,高聚光太陽客戶有禧通、穩懋等。目前客戶群LED及半導體約各佔6成及3成比重,其他為LCD、高聚光太陽能及微機電。, m% D5 q; L+ L L* n
( G( m" @: Z b) i2 G科毅曾與工研院、台大及成大合作,強化客製化能力。為催促國內第一台自主開發的晶圓級全自動曝光機的誕生,2008年起與金屬中心密切合作,2009年共同執行經濟部主導性新產品計畫,順利於今年開發國內第一台IC封測廠晶圓級全自動曝光機,軟體與系統整合能力更上層樓,此設備也順利投入國內某晶圓封測廠生產線,見證國人先進設備的開發製造技術,邁入嶄新的歷史新頁。