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[問題求助] 請問功率二極體/電晶體是使用什麼製程呢?

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1#
發表於 2010-3-24 21:59:53 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請教版上各位先進,功率二極體/功率電晶體是屬於高壓高電流的功率元件,必需使用什麼製程來做呢?
. p2 R$ L  u& j隨著電流電壓規格的不同,是否製程也會跟著改變呢?
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2#
發表於 2010-3-28 14:11:09 | 只看該作者
可以去翻翻製程的書4 u2 b; J( F+ @  F! \: ~, X

! [. V" T1 h* {+ {1 t9 u) \# S或者是製程文件
, O0 T5 N- `& B  P
* v$ q3 o  Y+ r3 Y再不然把元件書看一看可大概知道是用那些製程完程!( `' L3 k, I' w% Z  e
1 {1 o. r$ G% z/ c
然後以模擬方式去找嘗試
3#
發表於 2010-3-29 12:47:28 | 只看該作者
我们实验室有用.13的锗硅工艺做的
4#
發表於 2010-3-31 08:34:29 | 只看該作者
工艺文件不是都有说明的吗??8 k8 U- p/ J; |, A; [1 [
都会有个process flow
& T5 `. j9 i* V- d, e  f
2 w# W6 T/ J5 `, N, F! d/ j8 `CMOS中功率器件只是多了个层次或者改了些规则而已啦。。' \1 F% B% w4 ^1 d. l: M
比如提高栅压或SD间距
5#
發表於 2010-4-26 18:16:00 | 只看該作者
好像是BCD製程?! ^2 X2 z3 {( @  r9 C
雙載子CMOS高壓製程?
" u/ Z; D' P, u' Z$ l& y您可以再查查看
6#
發表於 2010-8-11 21:54:22 | 只看該作者
看看电子工业出版社的 半导体制造技术吧!
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