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[問題求助] HBM测试中VDD-GND(+)与GND-VDD(-)的区别

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1#
發表於 2009-6-8 12:46:55 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
请问各位:我现在做了一颗芯片的ESD HBM测试,其中VDD to GND正向电压测试是pass 8kV的,GND to VDD负向电压测试却只能过3kV;以我的理解,觉得这两个测试的结果应该基本一致,但结果怎么差距这么大呢?4 T3 T+ O$ W) I* H0 E9 U! u
下面是VDD和GND之间的ESD保护电路。
% g( ~9 V/ g6 }/ V- a/ T) C
* |/ ?# _3 Y' o[ 本帖最後由 frankaurora 於 2009-6-8 12:58 PM 編輯 ]

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2#
發表於 2009-6-8 16:11:09 | 只看該作者
有HBM fail 的分析報告嗎?是否是左下方像是MOSFET 出問題,一般是Gate insulator 打穿,而正向好像只有電阻..
3#
發表於 2009-6-9 18:14:54 | 只看該作者
可以看一下FA的圖嗎??是哪個device damage??
4#
 樓主| 發表於 2009-6-11 00:28:53 | 只看該作者
谢谢上面两位,现在初步判断是因为我的IO只对GND做了GGNMOS,所以在从IO向VDD打的时候,ESD电流虽然没有损坏GGNMOS,但在VDD和GND之间ESD保护器件起作用之前,已经把芯片某些VDD与GND形成的反偏二极管击穿了,所以再接下来GND-VDD的测试就肯定失效了,但这个失效不是由GND-VDD之间的ESD失效导致的,而是之前IO造成的。0 \4 d5 H4 d3 s' f7 C- V, Y) p
' _  `  o& U, N$ f: l! l  `7 D0 h
大家觉得我这个分析的对么?
5#
發表於 2009-6-17 13:36:07 | 只看該作者
原帖由 frankaurora 於 2009-6-11 12:28 AM 發表
: E  y1 s1 U. t/ Y. D2 a: k9 ^谢谢上面两位,现在初步判断是因为我的IO只对GND做了GGNMOS,所以在从IO向VDD打的时候,ESD电流虽然没有损坏GGNMOS,但在VDD和GND之 ...
0 m" \4 _8 n) Q8 V2 P
不知这个case有无结论?7 T0 r7 ?9 f9 x5 k) m) G% F9 w
我认为有2件事情还要详细信息:
* _) x' S* @7 R6 n1)测试的细节,比如在测gnd-vdd(-)之前,是否有进行其它测试。比如你提到的有测试其它信号IO。
' \3 E) H3 Z2 ^5 Y) R* J, f  U2)最好有emmi图片,这几乎是ESD分析必须的手段。1 r8 l' }# H0 e4 g2 S+ @7 J  G
就你发上来的vdd-gnd间的ESD保护电路来看,vdd-gnd之间的4种模式都不应该有问题。这种保护电路是目前比较流行的结构。
8 |1 g8 j" w0 J* o+ x: u3 z0 ?个人看法。欢迎讨论。
6#
發表於 2009-6-17 13:41:48 | 只看該作者
原帖由 frankaurora 於 2009-6-11 12:28 AM 發表
  Q. g! q$ P7 x: {& e  @1 F' G谢谢上面两位,现在初步判断是因为我的IO只对GND做了GGNMOS,所以在从IO向VDD打的时候,ESD电流虽然没有损坏GGNMOS,但在VDD和GND之 ...
* Q' E; m+ s! E6 p
补充一下:
, e4 M/ q8 i7 ?, t8 W. ~. d1 M你所说的这种情况是很可能存在的。通常来讲,对于信号IO-gnd,IO-vdd是都要做保护的。如果因为电路设计的需求,而无法做IO-vdd的保护,那么是有风险的,这时就要非常谨慎,把可能出问题的地方分析仔细。
7#
發表於 2009-9-27 20:07:21 | 只看該作者
建议先做VDD-VSS间测试,在做IO-VDD(VSS)测试,最后做IO-IO,如果可能的话,每种测试分别用不同的芯片。
8#
發表於 2009-10-30 10:09:54 | 只看該作者
不知道这个case有无最后结论/ ]$ Y( h& B, u) B# E$ b
一般来说这种情况是因为两个方向的寄生电容不一致造成的   0 D0 h9 T: z/ R6 m
另外可以看一下你内部电路的结构    个人认为保护管尺寸调一下会有改善    (L可以调小)
9#
發表於 2012-2-12 13:46:00 | 只看該作者
呼唤frank大神出来说说结果
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