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有一本書我覺得蠻不錯的
( Z* N0 b/ H2 l" s! P0 v+ m; u3 Q原文跟中文書都有 也是大部分技術學院大三大四6 x0 H9 c' H& P; V( \7 P" [
會使用的 半導體製程概論 教材9 E7 P" c# {: B: j" I r
看完這本再去看 莊達人的 VLSI 製造技術, 高立出版 , R" i2 `; D% T, \ {% b
整個製程概論應該就會蠻了解 (莊達人這本跟施敏的半導體元件物理幾乎每個固態組的學生都會買)/ b" T( j- S& r' P
1 q. R7 y& J- i# q k- s& Q* i
Introduction to semiconductor manufacturing technology
9 B/ D; b' D, J+ M半導體製程技術導論) p% P, A! Y, z2 a# ^& M
原著 Hong Xiao1 u9 i; Z( ~+ q* P
譯者: 羅正忠 張鼎
% [5 h, K! F4 P3 l# v% l, l8 s; @% Y
以下簡列書的目錄! C9 Z' s. g! _' |* m/ j* p2 _" {
Ch1 導論+ r! ^; a3 k4 \& d- A W
Ch2 積體電路生產的簡介
& g2 |" O/ E6 b' oCh3 半導體的基礎8 U* O' Q D. F6 a4 G% H) G
Ch4 晶圓製造0 M- x& w& u1 p0 l' M2 n, ^
Ch5 加熱製程
+ Q6 D/ [0 l% k4 Q& T0 U4 k5 fCh6 微影技術
8 H7 ]% P H2 }& D. `7 i v% UCh7 電漿的基礎原理/ c1 u4 `* S# |, G4 p( Y) U. H( S
Ch8 離子佈植/ ^4 H# C3 p: F6 S2 b! X* {2 Z- t
Ch9 蝕刻1 U2 m; `, u0 Q* F4 B+ S S
Ch10 化學氣相沉積與介電質薄膜
( {, K5 @0 r6 M& w! i2 C |Ch11 金屬化製程
5 p) `$ A& [* @- G. ]5 S7 w: m9 PCh12 化學機械研磨
! ~9 o9 Q' z* {2 D3 s0 GCh13 製程整合! A+ X6 N3 r$ a
Ch14 CMOS製程
* h/ y) B) O- S
6 K* L6 @- D2 z! O& R這些都是基礎 到了公司學到的 不同公司的製程 對各個Layer的命名方式都會有所不同5 d. u( n7 d2 Y* V. m# x
學習這些基本理論的原因 是要培養 你對整個半導體 從最底層到最高層一個建構剖面圖的觀念5 _ a- U1 d- y$ F9 e3 I5 [
用什麼製程技術產生Oxide做隔離 用什麼製程技術做成Channel ; b: T4 R3 K; B7 i9 K6 v6 x
怎麼樣做出濃度不同的diffusion, 寄生BJT或Diode又是怎麼形成的等等
7 O& {4 C. Q" a8 L& p! B1 s2 i; V2 ~- | N4 y4 X
在這邊比較可惜的是 以前的交大NDL有 半導體製程的教學網頁 會把0.35um的製程從第一個步驟介紹的最後一個步驟
6 _; V( A) Y% p都是用動畫的方式來呈現 對當時還在唸大學的我非常有幫助, 不過現在好像找不到這個網頁了 殘念
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. x, S0 Y/ S' l, s6 u[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-2-4 10:49 PM 編輯 ] |
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