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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?5 R$ A2 x) i3 {1 P
再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?' F: s; @! n. {4 b- a. u& I
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯
6 b) }6 n% m% K3 y+ Q; f3 l$ v! d1 e: L8 j. ~0 i6 f3 Z
如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。* Q8 G' j; _2 c6 u0 i* [
會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。
( w5 e4 ~7 C6 P% r
9 h* c- N# w3 nS/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外
2 F8 `1 j9 V% |也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。
% P0 p3 E; O; }! d5 _% B
5 }9 ?: C. E9 V6 Y這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...8 @& o  [* w7 R% P# T8 O* r
意思都差不多,我大概能了解了...0 r( ?1 B6 m! T- h2 C
至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?) i+ [, h3 Y" N* C8 V9 [" t
謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB
( B2 G7 n7 m+ d9 }  {5 Y# n+ ?不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白3 D, B  R& o' a+ g' a3 v- c
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,6 I! `# w9 o5 g  o" \6 H
SCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,
; ?9 r2 S% J" t  j" r有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?
2 M2 A$ [( k* I" G/ `+ W6 O知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次7 [% P* e) Q  x6 A6 z# r6 z3 }" }
看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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