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[問題求助] 請問各位大大,關於MOS電容下極版問題

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1#
發表於 2010-4-12 18:07:01 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
若是NMOS做的電容7 u& n/ E9 U5 \" y# b
上極是版G極,絕緣層是薄氧化層,那下極版是基底還是N通道呢?我有查書說明有三種狀態. z5 {+ K: L; ^! }
1,通道未型成時
" J! _$ U* [8 d' j1 @2,三極管區
3 N& W2 Y7 I6 h  G9 ~3,飽和區+ m0 [  l0 [* d
但是RD通常叫我算POLY跟OXIDE重疊的面積就好
! s/ E9 a7 G( ]; j" }這樣是操作在哪一狀態呢???
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2#
發表於 2010-5-3 20:21:49 | 只看該作者
3,飽和區5 D0 B1 Q) t) n- r- v
通常 depletion 都要形成,電容值才會穩定
" U& {- W1 l$ s: p: F0 J) J. R所以使用的範圍 Vg 會超過 Vtn , % J% M7 T0 x! v- a* ]
如果想要使用雙向電容的話,可以用 barrier N+ , let mos always turn on.
3#
發表於 2010-5-5 10:56:09 | 只看該作者
通常應該是工作在  (2,三極管區),因為MOS電容的S,D,B三個腳位會是接在一起,Vgs=Vgd,所以是在三極管區,在電路設計上,MOS電容通常是由W和L的面積算出來的,但會非常不準,通常是用在穩壓用,而且在不同的電壓時,電容值會不同(Razavi的類比IC設計第二章),要大於Vth後電容值才會較穩定,且不適合當雙向電容使用(如OP的miller 補償電容)。
4#
發表於 2010-5-5 11:01:14 | 只看該作者
工作在反型层 状态
5#
發表於 2010-5-28 00:17:31 | 只看該作者
example for NMOS :
" c' D/ o* `. N0 y+ D9 H" W2 u! gVg > Vth MOS at deep triode region, MOS Cap at strong inversion  o' X" M& Y1 E+ a" v
Vg <Vth MOS OFF, MOS Cap at accumulation; i  F$ A8 P/ f4 I- N

# u& B& t! s" C8 ZYou can see Razavi Chap2 pp. 39
  e6 @2 `) @; ^% S7 w6 }3 _. `Good Luck ~ !
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