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就這問題跟幾個朋友討論了一下
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" G/ S6 F0 N+ Z& U" u% k+ z/ n5 m得到以下結論
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5 C8 ]4 I4 O9 L; F$ D: g目前的製程技術已經到哪邊了???6 }& }; W7 m, O, s0 K
你所需要的製程技術是否需要???- Q [6 N# d: q% L+ m% Q" k
DESING rule 都會注明是否可以使用45度角使用4 Y2 U" F; q: q+ f% G/ m
/ E `" |4 V. m/ j7 P* v其實越先進的製程跟我們所LAY的圖已經差異很大了
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8 c5 [! F, b. S; p/ V4 h+ K我們可能拉一條線 FAB廠可能就用了好幾層光罩圖 去補強( ^( d' y+ A% N( v: M
' x; v& y5 o9 O0 n7 R! D% d所以45度角的使用上也不至於這樣在意(高頻部份 我就不清楚啦)6 ^3 c& T4 a$ p4 g+ X: E+ f4 t
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重點在於你的MOS對稱性 那是不會改變的
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" e5 [$ j4 m1 r4 s6 n: H; r如果對上述回覆有問題請多指教 謝謝 |
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