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[問題求助] 類比電路特性

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1#
發表於 2008-1-11 00:07:54 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問各位前輩,我是剛進入ic layout不久的菜鳥,畫類比電路時有些電路型態不是很熟,例如差動對的對偁性等等,有沒有哪些書籍講到這些相關知識?# R+ Q( b' }; K; S4 a) t
一個via的阻值約多少?power line的寬度要如何取決?
% _" H1 p, j0 J1 ^. X% Z還有另一個問題,就是p type的電阻需要圍n gardring麻?
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2#
發表於 2008-1-11 08:44:49 | 只看該作者
有一本畫layout的經典書6 q0 O4 r4 A, Q" n
The art of layout 記得是這樣錯了請指教& a" m2 {: H4 o$ P6 K& _) T
至於類比layout不僅僅只是layout的責任9 o* h9 h- w# T% P% g) u3 i/ f
designer必須說清楚power line寬度. 這關係到電流的密度
3#
發表於 2008-1-11 09:00:30 | 只看該作者
via的阻值, please see foundry's SPICE document or PCM spec. document.
7 K( k9 X- _+ R$ ~, V1 I  Q1 O- _" Ppower line的寬度depends on current density, IR drop, noise immunity, etc...
5 M8 b' r4 Z$ U: n4 |( D7 mp type的電阻, diffusion type has better to have N-guardring, poly type has not.
4#
發表於 2008-1-15 11:48:15 | 只看該作者
VIA是能打滿就打滿(在這裡地方工作,他們經理告知我們的). I- y; L& s8 x! U
像line的寬度,你要問RD,這些是由他們來考慮的!!!
9 E0 F5 X1 A2 D" r5 U) _9 P% a所以像line的寬度,通常拿到電路時,都要先問RD,而不是畫好後在問
5#
 樓主| 發表於 2008-1-16 23:35:00 | 只看該作者
嗯嗯,像line的寬度我是有問過別人,他說1um的線可負載0.8ua的電流
6#
發表於 2008-1-17 00:24:03 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

contact 能打多少就打多少
( W3 ?1 D$ J/ u5 {在 M1以上 考量到的是電流密度的問題(比如 有一個 5mA的電流要由 Metal1 流向 Metal2 結果你在 M1/M2之間只有打少數幾個# M9 X6 U0 ~: a# m6 N4 ?  Y9 u, b: g
contact,有可能會造成太大的電流會一直灌那幾個contact,  造成electron migration, 也就是 contact會整個燒斷. )3 u; W6 ^, Z- z! K. |  [! q

( W$ o3 A0 D, B* t( R因此 一個contact有一個可承受的 電流量, 不同的製程廠都會有不同的規格- c% a8 O) _% q6 b/ }  B+ C
如果是 M0(Poly) contact ,  除了 電流密度的考量  還可以降低 well與substrate的電阻
$ q) Y1 f/ M" n: ?防止 Latch-up效應發生 . 因此 contact打多 只有好處沒有壞處, 只是Layout Engineer通常都會偷懶. d3 x7 z/ d5 b% ~0 }  s
我想可能是因為 他們不了解 contact打的量的多寡 對整個IC的影響是什麼?
) N2 ~3 i5 M3 \0 ?# g" u8 B
0 E  c8 E; |; `2 M: d至於 M1/M2  power line的寬度   M1/M2 每um寬可以忍受的電流  同樣每個FAB廠的規定也不一樣, x: ?, P5 e. t! s
大概是  每um寬 可以忍受  0.5mA到1mA不等的數字  
1 U: d+ D: D5 B% E+ `  x$ t% E3 y每條線上 通常會流多少mA的電流也只有做這個電路的人才會知道, 所以自然是要由 RD來給定
5 S! A1 S, ~+ _4 ]4 ~" n" r! }' p  t, lLayout 工程師負責畫,  寬度給太窄同樣會有 Electron migration的問題.$ o; E5 A8 b: S
3 ~& H5 S6 s: C$ x* Q- ]6 Y
[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-1-17 12:27 AM 編輯 ]

評分

參與人數 1Chipcoin +3 收起 理由
sjhor + 3 Good answer!

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7#
發表於 2008-1-17 17:13:36 | 只看該作者
agree with  #1 & #6
4 @( s( e: @. ]" Q% t, ^+ W: ?
0 F( w8 \. S4 [* u2 {There're many people have wrong concept.
1 e6 B3 h* I# i4 Swhy don't  you see the designrule???
; L% B& N% ?& a' Xthey describe in detail.
: _6 O, |' B/ E( y% }* W" n8 P0 Jno need to ask RD
8#
發表於 2008-1-17 21:05:18 | 只看該作者
Layout的時候design rule文件是很重要的,7 Q. \5 D  n3 e4 G; Y$ |" a
很多需要參考並且遵守的資訊都在裡面喔!
9#
發表於 2008-1-19 18:36:06 | 只看該作者
喔~~原來是這樣唷~~多謝謝大大的經驗分享~~謝謝唷~~感謝
10#
發表於 2008-1-22 19:33:37 | 只看該作者

不錯耶!

我看到上面大大的回答真的很好耶!
' ]7 _& J0 Z- t4 l不過因為Latch up會因為Contact的多寡讓它不會發生的情形2 m9 w+ D. F3 f: L& c9 K
但是Latch up在跟ESD的情況下,如何去取得好的Contact確實是很重要的方針
9 [8 P% h6 F7 J( g3 Y2 s6 x我看過其他資料,Contact的多寡會造成ESD很容易觸發,一樣會是會造成IC Failure
8 ^) W$ y. J% U; d0 p8 E因為Latch up越好,同樣的ESD的效能就會影響到。
$ x, p5 {1 \1 l9 n) K$ h0 X0 g& d4 W1 u
這是上課的資料,如果有錯誤麻煩各位多多指教!2 K, `0 V) j( p4 Z* \. W% @
謝謝。
11#
發表於 2008-1-22 22:44:29 | 只看該作者
*latch-up 現像,是形成 pnpn or npnp 造成的吧/ \3 `4 r$ _5 h- S6 u
所謂的contact 應該是substrate contact
# B/ R! ^+ O, m4 H( Z7 W- @+ [ 那是降低body 的電阻,使得電晶體不容易開啟
6 a& e) m! s  E( _ 其實只要合乎rule,基本上已經足夠了,除非是大電流的driver! S3 X. u' j+ F* _3 h/ b
那就需要拉開距離,加上gard ring 才保險一點* N, g* ]! Q! b- i2 P

6 a5 G( O$ n6 C1 ^' |*p type 電阻......* C5 b( \) L2 Y: K" A" k3 u
p+ or p- ???
& Y; n3 \" ~% G, O! u 應該不是p+吧,呵~~~~~
" O) Z0 Q$ e& s0 e4 B 假設是用p-(應該是well吧),注意一點,電阻性的元件會有壓降的
& z" ]" f( r- Y. w well to well 的rule (不同電位的)應該較遠吧
" z8 f6 _# h- ^+ p: R6 m 那是為了防止形成寄生的電晶體(pnp)0 S' J# e0 l( @/ ^( v" R' e3 G2 n" D; k
如果圍上gard ring (n+),等效於將寄生效應消除(base connect vdd)
! O# Z, {1 t, m; N: M2 r3 A ps.我也會圍gard ring ,但絕不是上面的理由,是為了防止noise 干擾; ^; X5 C8 i' u$ k
) c4 E9 `6 F1 A$ {! R
*esd .....
0 B4 @3 Q3 w3 F) E% c) f) l Latch up越好,同樣的ESD的效能就會影響到????( i3 f2 y5 `* e2 s4 N
不太了解這句話的意思
0 ^7 ?# `+ x# O: _: s, { 這邊指的ESD是針對 i/o pad 嗎??
12#
 樓主| 發表於 2008-1-24 23:56:13 | 只看該作者
大電流的driver,當我們在layout時,以一個array 4*4的方式去做,那為什麼不可以直接把每個mos的poly 以poly連接起來呢?
) U+ X* n- a5 B) l我看的是把16個mos各自打上poly contact然後再以matel連接起來,請問這是為了什麼?
13#
發表於 2008-1-25 02:17:31 | 只看該作者

回復 12# 的帖子

在此說說我的看法
3 b: b& x* S/ d" i! ?5 z用Array 4*4 是為了 Layout上 對稱性的考量  避免光罩曝光時即使有偏移,不管是往上下或是左右Shift$ M9 L" d, x1 e8 G9 |+ X# J
16個MOS的元件特性偏移基本上會一致.  (降低Device mismatch)
5 e9 D$ c0 p: [- q6 ]6 w( R不用Poly去接  是因為 Poly 電阻都非常的大,  比Metal電阻大很多  你雖然Layout 16個MOS finger,  實質上那只代表一顆MOS  - Q. L6 ~+ n6 N* M  E
電路設計者並不想要 電阻參雜在其中  只想要一個Pure的MOS, U6 {9 o$ z: x# [
如果 MOS之間都還有串聯Poly電阻的話    這樣就不是原作者想要的一顆大Driver的MOS了.
- z+ @3 W3 ~7 C( P. o
6 \9 X! C# u- e- s此外把一個大Size的MOS Layout成 很多個MOS 還可以降低Process Variation. ~; T: w) E9 B+ N
比如  你要Lay    W/L    320/10    就可以拆成  
: i& C, g6 @/ f& e16個     20/10       每顆MOS在製程上    有些 Width或Length做出來會  +1~5%   有些會  -1~5%   
. F5 n* ^" I8 R" M) [9 N) }2 e(在此製程的變異程度是假設值,每家FAB的MOS,R,C variation程度應該都不太一樣)& b! z7 w# p' e4 w2 s  Q* J( r2 f
16個MOS  每顆MOS  有些 W/L 變大   有些W/L 變小  加加減減的結果    製作出來的Hardware
1 P8 n: C$ H0 f/ F2 k+ P會比單純只 Layout 一個超大MOS  會來得更接近   W/L  320/10, `, N0 U0 ]% K

6 e1 b  a+ u) w) }6 q[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-1-25 02:26 AM 編輯 ]
14#
發表於 2008-3-18 01:32:06 | 只看該作者
contact能多打就多打
8 @2 \" w' b: U; K# \* G* K( I! n這樣子電流的效益會比較好
15#
發表於 2008-4-2 11:06:54 | 只看該作者
可以請問一下PCM的全名是什麼嗎?...
2 Z* l+ K6 k$ C/ o感謝~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
16#
發表於 2008-4-18 00:31:33 | 只看該作者
PCM: Process Control Monitor, 它對應了SPICE parameters 的typical value and corner value..
17#
發表於 2008-12-2 01:00:20 | 只看該作者
加gardring是來保護電阻的阻值,項限在你在畫電阻透過電阻係數表來計算電阻阻值,能的話 它的w (寬度)能w=2是最佳的,因為他在製程的時候,會侵蝕掉它的阻值,搞不好你拿到是2k電阻 透過製程會變成1.8k或1.9k的電阻,就是因為他在製程的時候被蝕刻掉,所以能的話 加gardring 或 Gummy是比較好和用matching做法也比較好
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