|
就這問題跟幾個朋友討論了一下$ p5 F- j& o; F! Y
& r, `0 E1 i- U2 Y ~, n; X得到以下結論" P) q% F: _2 e C z$ `
2 ?! m' Q% t6 t( X E& |目前的製程技術已經到哪邊了???
9 y: ^/ M0 S/ f& m, \你所需要的製程技術是否需要???0 R, q. @2 P- y4 |+ w3 G
DESING rule 都會注明是否可以使用45度角使用
9 e4 W; N" A9 [7 Y# y. x. m0 p3 A2 x; y' [8 R4 q% i
其實越先進的製程跟我們所LAY的圖已經差異很大了
* i9 Y+ b1 f7 y- j% m; y% \: s2 @* ]
我們可能拉一條線 FAB廠可能就用了好幾層光罩圖 去補強
4 H) n& Y# {8 t0 \
# A" q4 ?$ i& B+ t1 L# Q( F/ K所以45度角的使用上也不至於這樣在意(高頻部份 我就不清楚啦)
& a7 B7 J* g8 T
+ E" p+ M0 ]$ o! e, _. b. I7 p3 S" V重點在於你的MOS對稱性 那是不會改變的
0 ]# a, Q5 {9 V0 I
$ j) i5 x1 ?" |8 |1 k Q如果對上述回覆有問題請多指教 謝謝 |
|