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[問題求助] metal走45度角有什麽影響

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1#
發表於 2009-5-1 07:35:08 | 只看該作者 回帖獎勵 |正序瀏覽 |閱讀模式
各位大大,請教一下metal走45度有什麽影響呢?謝謝啦!
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23#
發表於 2016-1-19 22:25:50 | 只看該作者
大電流的地方就要45度  F/ c$ R- Z0 x$ @9 q% ]! q# i
如果都是DC,那就免了
22#
發表於 2016-1-9 04:45:12 | 只看該作者
謝謝你們的分享  讓我學到很多
21#
發表於 2012-5-13 20:52:54 | 只看該作者
感謝大大分享經驗~~學到很多
20#
發表於 2009-11-19 18:43:14 | 只看該作者
在 IC Core 裡我不曉得, 但在 PCB 上 45度轉角 對降低 EMC 非常有效, 由其是在高速訊號下, 降低 EMC的產生, 試想 你以高速跑步 要轉灣時 如果90度轉彎 你會不會 偏出去?
19#
發表於 2009-11-18 20:54:42 | 只看該作者
一般foundry的设计规则里面都会规定你可以使用的走线角度。90度应该更常见些,综合考虑45度的优势还是没有它理论上的那么明显。
18#
發表於 2009-11-18 16:08:59 | 只看該作者
高頻電路才有差啦
  l' I* O, f* b* d6 W; M我同學做SAR ADC因為速度慢3 H9 j1 Y3 u$ N( |: _; C% c
繞線其實有接到就好了: B3 I; E3 b) o. _8 A
直角繞線或是metal太細幾乎影響不大
8 l9 U& W- w5 {4 J+ o/ V; l做sheilding保護敏感的訊號比較重要
17#
發表於 2009-11-14 16:59:31 | 只看該作者
進來看一下
8 x# i. D0 i: N2 [$ y又學到好多事物/ {, b% r6 l1 o# F* @& [* Z
第一次知道layout可以90度以外
% V) ~1 L( V0 N2 ~- F; ^% u謝謝!
16#
發表於 2009-11-12 16:33:15 | 只看該作者
就這問題跟幾個朋友討論了一下
# g  D( u; d. c# d) @5 n" E% F$ p6 J+ |1 o
得到以下結論
! v& C$ H% Q  ?
, |* t0 O+ \( v  ?1 `- ]目前的製程技術已經到哪邊了???
* J6 Z6 U! X. l) H* f你所需要的製程技術是否需要???
; C8 q7 G* `. w/ H2 GDESING rule  都會注明是否可以使用45度角使用0 C9 z5 h- A, |" s$ Y

) }- U  _; x2 |# t; O其實越先進的製程跟我們所LAY的圖已經差異很大了  
5 j& q/ X6 M2 _& N$ K0 [# T  C% g2 B3 n! {) k3 f" g
我們可能拉一條線  FAB廠可能就用了好幾層光罩圖 去補強  k4 W, g4 W9 j5 F4 Y2 T/ x

1 `9 X( w+ c% {* T4 O所以45度角的使用上也不至於這樣在意(高頻部份 我就不清楚啦)" Y$ n) p* u2 ], R# ^- O, x9 }

; J4 u/ t- Q9 c' R重點在於你的MOS對稱性 那是不會改變的
8 d: X- ^0 |3 E4 W  N  Y; @# p( J
如果對上述回覆有問題請多指教  謝謝
15#
發表於 2009-11-11 23:12:35 | 只看該作者
謝謝大大的分享,非常需要,GOOD!~~~
14#
發表於 2009-10-3 01:01:57 | 只看該作者
45度角
, q$ S5 B  v/ g% k/ K1.DRC 檢查軟體運算時間++
, \( F  S' J0 M2 c" z2.RC Extraction 不準 運算時間+++
5 ]0 H( U2 K, N5 }7 s6 c6 K) F7 l3.P&R 時間 +++" s9 M2 T. P4 l- F4 r9 g2 M
4.最重要的原因 製程良率 ----  A' G* ^: X) C1 D% V7 o
* h  J& j! E* v- I$ a- \
Cadence在幾年前曾經被北大的團隊騙去搞 X architecture 最後市場 = 0
, z' W" Y- [- b7 d. Z; |當年提出一堆"好處"後來證明是壞處更多& e# n7 M9 p. D& U
所以 90度角 還是證明他的價值存在
6 n. @! A0 O, F# p% X6 C6 Y3 p0 L- ^0 ?( p7 Z
至於上述的有人提到電流的 應該是指寬 metal 在 Analog IP 中使用的情況6 z. V1 p6 [6 ~0 @8 \& |/ T) o
而且要求低階製程使用 ;在45nm以下使用非規律的pattern 都是在浪費錢
13#
發表於 2009-10-1 11:27:16 | 只看該作者
尖端放電  在現在的process  好像比較不會有
. j4 ^2 K% X* {7 r但是 45度斜角  有時是電流的關係
12#
發表於 2009-9-25 11:37:39 | 只看該作者
只要你可以避免OFFGRID 都沒問題8 X6 I; r8 t" W- A6 F$ _
0 I/ N8 ~$ C7 x
OPTION  DISPLAY 裡面的  X Y 的spacing 大於 0.001 應該都可以 過  這也要看製程廠提供的RULE  你可以試看看
11#
發表於 2009-9-25 11:18:06 | 只看該作者
謝謝你們的分享  讓我學到很多  之後就LAYOUT就可以試試看
10#
 樓主| 發表於 2009-5-8 22:15:01 | 只看該作者
謝謝大大們的分享,感激涕零,在這裡真的能學到好多東西哦,尤其是我這樣的新手。
9#
發表於 2009-5-8 16:53:31 | 只看該作者
因為core cell本來就是用在處理digital signal, 結果不是0就是1, 不會有電流考量.
- ?' s$ C8 J4 Q( ^2 E  g使用在APR如果timing model不準, tool會自動加buffer, 這也不是metal走45度角就可解的.
8#
發表於 2009-5-4 16:27:24 | 只看該作者

回復 7# 的帖子

在自动布局布线中,工具一般不支持
7#
 樓主| 發表於 2009-5-3 21:59:45 | 只看該作者
这么说来,45度角很有优势嘛,为什么在core cell中很少用呢?各位大大,帮我解答一下啦,谢谢!!!
6#
發表於 2009-5-3 19:36:55 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

没有,可以用135度转角尽量就使用!
5#
 樓主| 發表於 2009-5-3 11:57:51 | 只看該作者
謝謝!!!metal走45度對作mask有沒有影響呢?
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