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[問題求助] 類比電路特性

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1#
發表於 2008-1-11 00:07:54 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問各位前輩,我是剛進入ic layout不久的菜鳥,畫類比電路時有些電路型態不是很熟,例如差動對的對偁性等等,有沒有哪些書籍講到這些相關知識?8 `0 A7 B7 Q; v2 n
一個via的阻值約多少?power line的寬度要如何取決?
  `4 z) |! C5 e' T. Z3 w還有另一個問題,就是p type的電阻需要圍n gardring麻?
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2#
發表於 2008-1-11 08:44:49 | 只看該作者
有一本畫layout的經典書
% D- V1 e5 D+ [/ y& }9 [/ J9 TThe art of layout 記得是這樣錯了請指教! A3 h; G$ Q/ g. P! d
至於類比layout不僅僅只是layout的責任
' [4 x* E& Q) d* Xdesigner必須說清楚power line寬度. 這關係到電流的密度
3#
發表於 2008-1-11 09:00:30 | 只看該作者
via的阻值, please see foundry's SPICE document or PCM spec. document.
3 I( ]' a* {$ Tpower line的寬度depends on current density, IR drop, noise immunity, etc...
6 f5 i( V9 i& E7 h% m. Kp type的電阻, diffusion type has better to have N-guardring, poly type has not.
4#
發表於 2008-1-15 11:48:15 | 只看該作者
VIA是能打滿就打滿(在這裡地方工作,他們經理告知我們的)
/ v  g) O( W/ H+ [9 j- h像line的寬度,你要問RD,這些是由他們來考慮的!!!# N( j' f% ]/ _2 G
所以像line的寬度,通常拿到電路時,都要先問RD,而不是畫好後在問
5#
 樓主| 發表於 2008-1-16 23:35:00 | 只看該作者
嗯嗯,像line的寬度我是有問過別人,他說1um的線可負載0.8ua的電流
6#
發表於 2008-1-17 00:24:03 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

contact 能打多少就打多少- H( r$ k  y" n  r* z1 J/ Q
在 M1以上 考量到的是電流密度的問題(比如 有一個 5mA的電流要由 Metal1 流向 Metal2 結果你在 M1/M2之間只有打少數幾個* P' P! C  y) T
contact,有可能會造成太大的電流會一直灌那幾個contact,  造成electron migration, 也就是 contact會整個燒斷. )$ V' k0 Q% O& V& `

* T5 B7 G( G& r# l- H因此 一個contact有一個可承受的 電流量, 不同的製程廠都會有不同的規格
: X+ X  F# j0 |, }4 U: }/ v如果是 M0(Poly) contact ,  除了 電流密度的考量  還可以降低 well與substrate的電阻7 w! W; Q( n1 j- x9 m% {9 N
防止 Latch-up效應發生 . 因此 contact打多 只有好處沒有壞處, 只是Layout Engineer通常都會偷懶+ Z: b0 w/ h0 Z+ }! R+ d" i2 |% A0 R
我想可能是因為 他們不了解 contact打的量的多寡 對整個IC的影響是什麼?! s" M0 ]/ n1 M- [0 B
( p% |* C2 [$ k, W8 f4 R
至於 M1/M2  power line的寬度   M1/M2 每um寬可以忍受的電流  同樣每個FAB廠的規定也不一樣5 ]. B. t8 j# w# W  ?$ k
大概是  每um寬 可以忍受  0.5mA到1mA不等的數字  . z/ p  B2 h/ A2 L' x1 a4 L
每條線上 通常會流多少mA的電流也只有做這個電路的人才會知道, 所以自然是要由 RD來給定
- p7 \$ d# Z' T- U3 y7 K0 j+ jLayout 工程師負責畫,  寬度給太窄同樣會有 Electron migration的問題.
+ }& z$ ?! `8 m" Z- c1 A) B/ y1 V% @: \! N4 C
[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-1-17 12:27 AM 編輯 ]

評分

參與人數 1Chipcoin +3 收起 理由
sjhor + 3 Good answer!

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7#
發表於 2008-1-17 17:13:36 | 只看該作者
agree with  #1 & #6& c* X" B+ v5 h4 r

( y" X  X  k% i6 _There're many people have wrong concept.- `- Y. T3 T% m1 R
why don't  you see the designrule???/ B  i5 p' G! G2 q! a2 Z& n( w
they describe in detail.$ `* @4 ]+ X$ y. k7 J6 O6 V; e
no need to ask RD
8#
發表於 2008-1-17 21:05:18 | 只看該作者
Layout的時候design rule文件是很重要的,
# N9 T) h5 i2 l  u. a- x  g; [很多需要參考並且遵守的資訊都在裡面喔!
9#
發表於 2008-1-19 18:36:06 | 只看該作者
喔~~原來是這樣唷~~多謝謝大大的經驗分享~~謝謝唷~~感謝
10#
發表於 2008-1-22 19:33:37 | 只看該作者

不錯耶!

我看到上面大大的回答真的很好耶!2 j/ N$ t5 y3 J6 `- c1 \7 L
不過因為Latch up會因為Contact的多寡讓它不會發生的情形
- q8 }) g; g# i- g1 e  n# s5 ]0 ~# ~但是Latch up在跟ESD的情況下,如何去取得好的Contact確實是很重要的方針! x4 p8 I' M8 h
我看過其他資料,Contact的多寡會造成ESD很容易觸發,一樣會是會造成IC Failure/ H! J& x! B' H: z- }4 R
因為Latch up越好,同樣的ESD的效能就會影響到。
, ~: X! _7 \1 |
7 T5 {4 R/ I' l  d  F這是上課的資料,如果有錯誤麻煩各位多多指教!3 |2 R( d) _1 s# U$ }5 m  t( ]
謝謝。
11#
發表於 2008-1-22 22:44:29 | 只看該作者
*latch-up 現像,是形成 pnpn or npnp 造成的吧! E- ]; ^4 c: m' _2 U
所謂的contact 應該是substrate contact
  B( D7 q, f! S4 u: d9 P 那是降低body 的電阻,使得電晶體不容易開啟
7 L% C1 j* ~; i' ~5 B 其實只要合乎rule,基本上已經足夠了,除非是大電流的driver* ~, o& w! R3 J% O
那就需要拉開距離,加上gard ring 才保險一點% t/ s- T) }$ H6 u4 }# \
) D2 @. Z4 L- Y5 Z2 `- ]. |8 n% ^" v) Z
*p type 電阻......- q" F* @% _. P3 k- }
p+ or p- ???
' w* X( S3 ?7 A4 j& V2 g 應該不是p+吧,呵~~~~~
: h& J, z" O7 ]* n6 w' C! G 假設是用p-(應該是well吧),注意一點,電阻性的元件會有壓降的
" T2 T# r; W/ h8 ?2 F- W well to well 的rule (不同電位的)應該較遠吧2 Q( i5 m. [7 z  u& W9 h$ J
那是為了防止形成寄生的電晶體(pnp)+ o9 I# p2 g; V' ], f, x
如果圍上gard ring (n+),等效於將寄生效應消除(base connect vdd); s% }' t5 u8 w, [
ps.我也會圍gard ring ,但絕不是上面的理由,是為了防止noise 干擾
0 k( d4 |4 m) K, I# t& T/ Z" w% J3 ~& M
*esd .....
2 B( h- Z/ w" ]9 Q) N- d Latch up越好,同樣的ESD的效能就會影響到????' W' a2 L+ J3 a, \# y, C
不太了解這句話的意思
8 y. H9 u( B) V- x$ N$ ]; j! i4 [! o 這邊指的ESD是針對 i/o pad 嗎??
12#
 樓主| 發表於 2008-1-24 23:56:13 | 只看該作者
大電流的driver,當我們在layout時,以一個array 4*4的方式去做,那為什麼不可以直接把每個mos的poly 以poly連接起來呢?4 K- q, h3 S- y+ {( O- h/ l) I
我看的是把16個mos各自打上poly contact然後再以matel連接起來,請問這是為了什麼?
13#
發表於 2008-1-25 02:17:31 | 只看該作者

回復 12# 的帖子

在此說說我的看法
5 R8 t2 t( e' }3 I8 `4 r, y' p用Array 4*4 是為了 Layout上 對稱性的考量  避免光罩曝光時即使有偏移,不管是往上下或是左右Shift
% Y$ \3 n, F( F( o8 Z16個MOS的元件特性偏移基本上會一致.  (降低Device mismatch)
/ O+ m) T% r6 m- d& g5 @+ y不用Poly去接  是因為 Poly 電阻都非常的大,  比Metal電阻大很多  你雖然Layout 16個MOS finger,  實質上那只代表一顆MOS  
/ b: s6 c& E9 R; d; X電路設計者並不想要 電阻參雜在其中  只想要一個Pure的MOS9 U9 V( F" n" L0 U
如果 MOS之間都還有串聯Poly電阻的話    這樣就不是原作者想要的一顆大Driver的MOS了.
: S, Z$ _" h4 _5 w: r0 A
' ^, _' ]; T3 H2 h此外把一個大Size的MOS Layout成 很多個MOS 還可以降低Process Variation
* c  r' E# B4 ~! c0 r/ K% Q/ q7 Y; ]6 w比如  你要Lay    W/L    320/10    就可以拆成  & F$ \& b& |- X
16個     20/10       每顆MOS在製程上    有些 Width或Length做出來會  +1~5%   有些會  -1~5%   $ O$ f. ?" c5 s. z+ ]4 J9 V7 S
(在此製程的變異程度是假設值,每家FAB的MOS,R,C variation程度應該都不太一樣)
" `8 f! j  v; X' T16個MOS  每顆MOS  有些 W/L 變大   有些W/L 變小  加加減減的結果    製作出來的Hardware7 N/ x+ l) c: |' {1 x/ D
會比單純只 Layout 一個超大MOS  會來得更接近   W/L  320/10
- a9 I, t- ^5 r1 v) G9 D9 s" I5 _6 o. n/ }/ G9 C" N/ H
[ 本帖最後由 yhchang 於 2008-1-25 02:26 AM 編輯 ]
14#
發表於 2008-3-18 01:32:06 | 只看該作者
contact能多打就多打
  L+ V, ]; M- x4 U/ Y這樣子電流的效益會比較好
15#
發表於 2008-4-2 11:06:54 | 只看該作者
可以請問一下PCM的全名是什麼嗎?..., z+ R2 F2 l) S! m+ k5 R
感謝~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
16#
發表於 2008-4-18 00:31:33 | 只看該作者
PCM: Process Control Monitor, 它對應了SPICE parameters 的typical value and corner value..
17#
發表於 2008-12-2 01:00:20 | 只看該作者
加gardring是來保護電阻的阻值,項限在你在畫電阻透過電阻係數表來計算電阻阻值,能的話 它的w (寬度)能w=2是最佳的,因為他在製程的時候,會侵蝕掉它的阻值,搞不好你拿到是2k電阻 透過製程會變成1.8k或1.9k的電阻,就是因為他在製程的時候被蝕刻掉,所以能的話 加gardring 或 Gummy是比較好和用matching做法也比較好
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