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《從2D SOC看3D IC設計系列》唐經洲/張嘉華/吳展良著

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1#
發表於 2010-9-12 11:27:27 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
從2D SOC看3D IC設計─3D IC設計(I) 市場趨勢篇
* F( N3 L$ u$ b+ Q( i7 F
作者:唐經洲/張嘉華/吳展良著
年份:2010年 版
ISBN:9789866184116
書號:EE0371
規格:16開/平裝/單色
頁數:432
出版商:滄海書局
定價:$520元
線上價:$468元4 h- u) b$ D; |
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2#
 樓主| 發表於 2010-9-12 11:31:30 | 只看該作者

+ ~: J  Z* \' V+ n消費性電子產品持續朝向小型化、高效能、高整合、低功耗及低成本方向發展,3D IC技術是目前唯一能滿足上述所有需求的關鍵技術。根據Yole Development預測,自2009至2012年,3D IC晶片市場的年複合成長率更將超過60%,3D IC晶圓的出貨量更將在2012年達到1000萬單位。台灣紮實的半導體製造能力和聚落環境,已經在2D IC產業和市場上創造成功的台灣經驗。
唐經洲9 A, l" F- J6 F$ P
現任:南台科技大學 電子系 教授0 B9 Z! ?. l; _9 W6 I$ p) A9 r
學歷:國立成功大學電機所博士
+ A* z3 A* \0 C經歷:工研院晶片中心特助 (2008/8~2009/12),半導體產業推動辦公室副主任 (2009/01~2009/12),南台科技大學 電子系 主任(2001/07 ~ 2005/07),笙泉電子外部獨立董事(2010/07~)。  \9 S8 K; r( X; X" F1 S" Z
研究興趣:低功率高速電路設計、數位電路可靠性設計、IDDQ 測試、深次微米電路後端設計流程整合、混合訊號電路佈局設計、單晶片微處理機/嵌入式系統、光學微影工程: (曝光梯度、光罩錯誤增強因子、製程視窗)、奈米製程光學鄰近補償 (OPC)、薄膜電晶體 LCD 測試樣本產生器設計、電子藝術、3D IC 整合、消費性電子產品創意設計。) ^3 P/ G" W7 `2 |: i) Z
其他:相關學生專題:國內外獲獎超過49件、發表論文:期刊(23)/會議(76)、專利:5件(Filed) /9件(Apply)、出版圖書:8本、證照:5張、受邀演講:21場
# S8 G, q1 M7 B' ^) m5 ?4 W* K. x; b( w/ I+ T1 A" F  h
張嘉華2 I: _$ _) f2 Q7 b
最高學歷:國立成功大學 工業暨資訊管理研究所 博士9 H1 d  `' d7 N+ M6 S  @- j
現任:南台科技大學 管理與資訊系 助理教授
5 B; Z. C! u# o, Y經歷:國立成功大學 附設空中商專 講師、南台科技大學 管理與資訊系 助理教授、南台科技大學 管理與資訊系 電子商務組組長、美國堪薩斯州立大學 工業與製造系統工程系 訪問學者4 L! s* _! V; r+ N% i
專長:供應鏈管理、 系統分析與設計、企業資源規劃系統、半導體市場分析與預測
: T) m8 `5 I: y& j( W* m3 ~  B, w; e0 L0 d1 H
吳展良
# f- m7 O, Q, \7 T學歷:南台科技大學 電子工程系 研究所+ r; U/ G% O8 ^9 @% X
現任:奇景光電股份有限公司 IC設計中心 大陸佈局課 副理4 s) I# Y9 z' c4 ?. j7 C5 D
專長:HV、Mix-mode IC Layout、LCD display Driver IC Layout% c/ f) o$ k, m& D5 f, i
經歷:2003/7任職奇景光電 佈局部 課長一職2 }" N& ]) X! U) B1 G, ?: Q1 R. P3 `
受邀演講:
* y% o3 E9 V& F( |: |6 y 2004/4半導體學院IC Layout座談會 (邀請單位台灣 成功大學/ 經濟部工業局)。
/ u5 |! r! A9 E/ t, ^ 2005/4 科學工業園區人才培育補助計畫擔任IC Layout課程顧問(邀請單位 南台科技大學 電子系&經濟部工業局)。% |( d8 P; V% s
 2005/9 2005佈局技術研討會 演講 (邀請單位思源教育基金會/CIC/交通大學)。
/ [, I6 M* B4 l 2006/4 半導體學院課程說明會 (邀請單位 工研院資通所),
# t& S/ z# u1 X. p4 P. a 2006/5 半導體人才需求以及設計領域課程規劃 (邀請單位 經濟部工業局)。' R3 J+ {1 x" O4 @1 }+ G
 2007/7積體電路佈局設計職能建構規劃會議 (邀請單位 經濟部工業局)。
" C9 s) a6 @$ Y/ {; K- P- ~ 2007/6~8擔任半導體學院 IC Layout講師 (邀請單位 經濟部工業局)。
3 Q4 Q$ x' ^# v4 C 2009/8 上海 SpringSoft Community Conference (SCC) 全球巡迴技術研討會,主講 Himax IC Physical design。) J% t! J% l4 D# v1 `
 2010/1 成功大學/教育部顧問室 DAT 聯盟超大型積體電路可靠性設計課程推廣研討會 主講 積體電路實體佈局上的可靠度考量 。
! @; V' n9 W& i4 f# G5 B0 R 2010/6 PAL 聯盟、勤益科大。, B6 P& O5 R$ E5 }' Q% n
 2010 年奈米佈局產學座談會,IC Physical Design 專業與附加價值。

1 x" S2 r' }0 H0 L4 k9 u+ M; G5 E1 簡介 (Introduction)
  f9 a% z& M7 H3 f- N7 |2 為何要用3D IC (Why 3D IC) ?
2 s# @/ W7 Y% ]7 G; J" {* p3 國際聯盟與發展藍圖 (Consortium & Roadmap)! X- p8 S* z5 I# |" ?! s8 g0 E
4 市場與產品評估 (Market/Product Survey)
) f* g5 q) S% y* a5 f" B5 同質整合設計 (Homogeneous Integration)
$ ~7 K  {) W0 T6 異質整合設計(I) (Heterogeneous Integration (I))1 }! G" F" P$ h8 @
7 異質整合設計(II) (Heterogeneous Integration (II))
3#
 樓主| 發表於 2010-9-12 11:33:16 | 只看該作者
從2D SOC看3D IC設計─3D IC系列(II)製程技術篇5 c' F6 B9 `. l: d* R/ Z
作者:唐經洲/張嘉華/吳展良著
年份:2010年 版
ISBN:9789866184130
書號:EE0372
規格:16開/平裝/單色
頁數:472
出版商:滄海書局
定價:$560元
線上價:$504元
+ q% y% f/ E5 B) h% b

* K. P; V$ ~0 Y) h1 {" h
1 3D IC 製程技術概要 (3D IC Process Overview). m/ P# I9 _' ]9 j0 U/ n# Q: a
2 晶圓薄化製程 (Thin Wafer Process)
4 _. p1 w# f8 B1 m* e# Y9 }1 Q3 晶圓鍵合 (Wafer Bonding)
+ Q- `: `2 o! G+ M$ i/ i4 ^4 TSV
製程
(TSV Process)
/ O7 r3 \. [7 Z$ @; ^8 L% y; g5 3D IC
EDA
設計上的考量  h3 U. S- {% G+ W
6 供應鏈 (Supply Chain)
. U7 H: w9 [& {" h. H9 G7 3D IC 的標準化問題 (3D IC Standardization)3 B4 ~7 b* d$ h2 U9 K: @7 c$ B
8 迷思與挑戰 (Myth vs. Challenges)
4#
發表於 2010-10-28 11:32:22 | 只看該作者
It seems it is a good book to read.
5#
發表於 2021-10-20 13:21:30 | 只看該作者
謝謝分享^_^- ]& K2 k1 S7 k0 G6 u
謝謝分享^_^
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