IC顯影劑的回顧與展望

jiming

經濟部技術處ITIS計畫王惠芳

發表日期：8/20/2007 http://www.itri.org.tw/

一、前言
光阻經由照射之後，會產生化學反應，再經由顯影(Developing)的製程將圖案定義在基材上，目前常用的顯影液為TMAH(Tetra methyl ammonium hydroxide) 氫氧化四甲基銨，化學式為(CH3)4NOH。經照射後因照射區與非照射區在顯影液中溶解度不同，顯影液可將易溶的部份溶解，而達顯影的目的，當光阻為正型時，照射區產生化學反應，主鍵斷鍵並發生極性變化，非照區則不易溶解於顯影液中，溶解速率可達十倍以上，負型光阻則是照射區產生交連，不易溶解於顯影液中，與正型光阻之反應相反。顯影液(Developer)為TMAH原液與超純水稀釋後所製成之產品，產品純度由TMAH原液以及超純水品質決定，為此超純水的製造以及TMAH原液製造方法的不同，將影響製品品質之純度，因此，目前的供應來源仍以國外技術來源居多。g-line、i-line以及DUV光阻所需的顯影液普遍是2.38%TMAH(統稱NMD-3)，特殊需求會再做客製作的調整或是面板廠內部自行調整。
二、日本與台灣IC顯影液需求
日本國內主要是三大公司瓜分，東應化TOK、多摩化學以及日本德山Tokuyama各佔有三分之一的市場，提供給IC半導體用的數量為6000噸，市場約為日幣17億元，這三家供應商同時也是LCD顯影液的主要供應來源。
3 t. N2 S7 D  k) R/ U, B供應給IC顯影劑的廠商也是以東應化TOK，多聯，日本德山Tokuyama為主，其中以TOK市佔率最高，佔有50%以上的市場。2006年顯影劑市場需求約有40000噸，市場值在12.1億左右，預估2007年隨著12吋晶圓擴廠，需求跟著上升，預估成長10%左右。

表一 2006年日本及台灣顯影劑的市場規模

區域	濃度基礎	需求量(噸)	需求值	國內/國外供應商
日本	~20%	6000	日幣17億元 : M9 t+ v" E1 |# }* ^1 D	TOK，多摩，Tokuyama
台灣	10~25% ; B+ {8 u* T  v	40000 2 F; |1 k9 o" |2 z7 D) k	台幣13億元	TOK，多聯，Tokuyama

1 I: T6 x9 M- `! X5 V5 W0 @資料來源：富士經濟2007/03；工研院IEK2007/08
由於顯影液的需求量大，單位售價也較光阻低，競爭激烈，因此供應商考量成本以及直接供應國內面板廠，普遍皆在國內設立製造廠，或與本土業者合作生產。TOK與長春化學技術合作,生產化學品供應半導體及光電產業，多聯由三聯科技與日本多摩化學(TAMA)合資成立，跨國合作成立專業化學廠，日本德山Tokuyama則在台灣尚無技術合作夥伴。
4 @- H, l2 x5 l國內本土產業投入製作顯影液，一方面需投入高成本購買純化設備，另一方面須有自己的專利技術，再加上目前每公斤單價以相當低廉，須有足夠的資源及技術，再投入會比較合適些，最合適的策略就是與國外知名大廠進行技術合作，既有成熟技術為後盾也既有客源，屬WIN-WIN的合作模式。