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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?
. d1 T& i7 f6 ]7 F. w8 S1 L再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?8 x* ?- b2 D" O& f% x
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯
0 V5 S/ t6 m/ t3 |9 m! g) R! n, i
- E+ [) b0 A4 b: s9 C如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。
4 Q. E0 U+ P8 M6 }  s$ ]會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。/ T0 M/ h* h* e- j( v, ?

7 Z1 Z. o  V' B( a* G2 _S/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外
4 Z9 o" N, `( d也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。0 b- z$ w* n* m! a1 S
4 r- o+ o) y6 r: f
這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...
! }3 A8 a- m6 _, }意思都差不多,我大概能了解了...
: m: b- z# }6 m) `( j1 I至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?& k9 c5 _; ~: h% w
謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB% ~  Y. U" m( j5 V9 V6 p
不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白
( s% B1 V; f5 Q. \, ]
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,
# K( m8 O; z+ v, N4 \& h) YSCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,3 Y9 y  e( a% P0 ^1 s" H
有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?# l7 B7 j5 O+ y' ~
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次
* j9 Q0 }* o- u4 p5 Z% m* i+ E看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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