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[問題求助] bjt 的 layout

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1#
發表於 2011-9-15 11:28:03 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問 PDK 中的 BJT 射極的部份
' y$ N4 W+ N) C9 q* A5 i7 w' I
* X, r- f# @0 k' E. M+ K  D/ sCT 和 OD有一段距離
, D" p' f8 W( K% h, K5 l& P( V: R- U& q. C3 W# T" z) G5 u  U, v
留那段距離目的是為甚麼?
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2#
 樓主| 發表於 2011-9-16 14:22:27 | 只看該作者
我再補充一下問題
* u$ S* ~" x# O/ Q- \- i4 W' H0 J7 c
我的意思是射極上的CT 沒有打到最滿
' h" m5 `) i; x% h, L
5 \0 R; W$ @" V1 F+ `9 `2 s離邊緣還可以打上3個左右
3#
發表於 2011-9-16 22:19:53 | 只看該作者
CT是哪一層layer?
& A2 I. O, L) k; @# r- ]NPN or PNP?
4#
發表於 2011-9-22 09:31:08 | 只看該作者
本帖最後由 CHIP321 於 2011-9-22 09:32 AM 編輯 ' Q% ?+ S) ^1 V% @2 K; i
: N2 e8 t; {2 q9 j1 q; k; [2 U% @$ N0 {
Cont 在CMOS兼容工艺中可能考量的不是太多,因为会在整个区域做saliside等硅化措施。但是如果要严格的说的话,cont的位置,cont的深度及结构本身是会对射级注入效率产生影响的。所以Desgin 需要遵循 DRC Rule,不能随意更改,另外你这里提到的估计应当是纵向管,接触位于射极中心,会减少射极的横向(侧边)注入,在不变更三层结结构,尺寸下,能额外提升发射极效率。很多BiCmos中会使用一个Contact来做射极连接。其他寄生还会有些利弊影响,可能不是主要考量因素。这是我暂时能想到的,供LZ参考,不当处请批判指正。
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