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[問題求助] ESD失效分析求助

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1#
發表於 2010-11-20 14:59:18 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
2颗VDD到地测试8 d" N; F1 y, U  o1 `# Q4 c
1),第1颗从500V开始测试,大部分在500V时就失效2 o4 e6 W2 D6 S. r, H7 R
2),第2颗从1000V开始测试,大部分在1500V时失效% m9 }; t. c0 \8 g1 T% F" L5 n
电源到地的结构为分布式的GGNMOS结构# V+ Q3 x- i/ x- ]8 g' c  A
失效机理是怎么会事,多谢
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2#
發表於 2011-1-18 14:32:02 | 只看該作者
要回答你的問題前, 我要知道一些東東:- T5 _" H# y% O; m. I8 t: x
1. 請問製程為何?
' A: e: a+ M  s4 |' w4 i9 @1 W2. MM:HBM約為1:10, 你HBM從1KV開始打, MM卻從500V開始打, 為何?5 l/ O6 s" R2 H% ^+ ^+ q6 E( G
3. 你的GGNMOS的W=?, L=?, M=?, DCG=?
) K9 J# ]7 }- v3 q1 g要有上述的數據才能做最基本的分析.
3#
 樓主| 發表於 2011-3-27 11:34:00 | 只看該作者
要回答你的問題前, 我要知道一些東東:
1 b$ w/ w" q+ t4 U$ Z1. 請問製程為何?
3 f! o3 g. ~2 E# v2 }1 m2. MM:HBM約為1:10, 你HBM從1KV開始打, MM卻從500V ...$ W/ K) ]& ]$ C! b0 s
klim 發表於 2011-1-18 14:32
  |6 T5 t; n& R: D. d( q7 k" }
* s! ?, d: z% ]6 a8 @$ q8 e! B
1), 請問製程為何?0 x" M* b# Q, h9 [
tsmc 0.18um * M3 x1 \# Y0 ^& B3 \/ B
- `) V% _) Y+ l4 b% G  P. v3 a
2. MM:HBM約為1:10, 你HBM從1KV開始打, MM卻從500V ...9 `& I: y+ `' q. x8 b$ _  z
两个芯片均测试HBM模式,故意一个从500V开始打,一个从1000V开始打
: b1 g+ r$ X3 z( ]. s, ~5 {* g) N5 N6 k! V( R- X* M" ^2 b4 N- b
3.ESD 的layout遵循了TSMC的<<esd design rule>>,只是没有固定的电源引脚,而是,通过配制IO口的属性来设置电源引脚的位置
4#
發表於 2012-2-12 13:41:58 | 只看該作者
感兴趣问题的进展,是样品概率问题吗?
5#
 樓主| 發表於 2012-3-13 20:20:27 | 只看該作者
感谢关注,ESD问题已经解决
6#
發表於 2012-7-12 12:21:25 | 只看該作者
how to resolved it????
7#
 樓主| 發表於 2012-8-21 21:40:30 | 只看該作者
在不同电源之间,电源和地之间,建立了更多,均匀的ESD通路
8#
發表於 2013-10-13 02:30:06 | 只看該作者
在不同电源之间,电源和地之间,建立了更多,均匀的ESD通路 ??& g7 ^5 q4 v- N, w7 r
均勻是指什麼
/ l- d" j) m! j4 y3 ^3 s9 K& J方便貼圖上來嗎
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