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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"
$ J$ k& h. _$ {3 A- d這種架構就類似於Diode-connected Transistor
9 R! o8 V! d7 N0 v, `1 _二極體接法形式的電晶體6 z2 O# ]" u6 Z) Q6 [3 P, a5 k8 x
這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值
! Z( l8 R" A+ X* t. x* F0 q5 T: {但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"
# s- x2 P4 h; m1 n' a, k. n) Y1 a8 A公式的表示方法也不一樣
% v3 |; V/ q6 P) W0 ~% S操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的
4 k% k; b* j: n) _
; f% S. H5 B; y1 A! G而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起
7 X- w$ V' d3 q" ?利用P-N junction的特性而已8 t, B6 }' r5 u3 O- n2 ?
( b. E$ u# C3 ]$ `8 ^
所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction
2 w- }+ Z) c& A' u9 U* R應該也會跟BJT做出來的有類似的效果
/ o* p! K2 X( d) b6 t, v! x- Z; E3 z* j( a) p' y3 x$ N, z
但是何者較穩定就不保證了
% ]8 o) d5 D% |( }+ W& ?* z3 j" j% m/ ?) x- F5 @- E' i6 G0 H
因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference
$ L' R0 ?% o6 I它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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