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就這問題跟幾個朋友討論了一下
2 K' O( w0 g1 p& O
( x$ v$ ^7 ?/ Q5 c$ J得到以下結論' V2 |, L) q8 \( [% H0 p& c: I G- ^
% y* s- R! `. @3 k. D7 R, M目前的製程技術已經到哪邊了??? T7 e+ w" u) @$ d, I$ v
你所需要的製程技術是否需要???' N+ T* x2 p! V4 F
DESING rule 都會注明是否可以使用45度角使用7 V0 v- D9 d4 _4 F0 p" A* d
# Q/ Q0 U- r/ J/ r
其實越先進的製程跟我們所LAY的圖已經差異很大了 1 b9 x0 \9 \! E9 } ?6 F; g# V
2 R) ]/ `+ F( H! R& A8 _我們可能拉一條線 FAB廠可能就用了好幾層光罩圖 去補強
, { Q5 f4 E3 ?4 I" `( n" A+ Y
3 ], O. ]. ^0 Y# h所以45度角的使用上也不至於這樣在意(高頻部份 我就不清楚啦)
1 ^9 T1 U5 ~" ~- `% n9 C) r* ]; B/ ?" E" a" w
重點在於你的MOS對稱性 那是不會改變的
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+ g4 n. L8 r, W! I如果對上述回覆有問題請多指教 謝謝 |
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