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[問題求助] 如何選擇ESD Device Contact Type?

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1#
發表於 2011-12-29 17:10:38 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
本帖最後由 CHIP321 於 2011-12-29 05:17 PM 編輯 * Q" R# ?5 K, E
  q' R$ R" |. Z

) K/ @2 g) e( \! \6 `2 G' q近來遇到了由於Contact導致電流密度不一緻的問題。
4 ~2 _) O. K- S) Q- Y查找了過去的一些Bipolar高壓片,發現很多使用的是長條矩形Cont或者Cont Ring,貌似應當有不錯的均勻性。
2 @: R# f- k2 f但是咨詢了一些同仁,認爲 使用標準Cont Matrix會更均勻。、
  L2 i1 j+ a" _" N迷惑中....$ U+ j! |! n. r: g
如果不考慮CMP製程限制,那種方法更有效些呢?
8 U' y! M+ v% @4 p& {$ V7 T
1 n8 }; I; x+ T# y; w7 ?+ X, @

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2#
發表於 2012-1-31 11:31:28 | 只看該作者
這個問題也困擾我很久, 不知有前輩可以解答嗎?2 e/ e% t' b* E0 W0 o
1 V: r) x9 D7 g; p4 P
個人經驗, 有些製程有效, 不過可能要考慮parasitic path,, L2 o- L4 d/ [% g, O% w) v7 X
有些製程則使用contact matrix即可, 還有要考慮processs能力,
8 e, \& V0 G5 x( G+ T有些製程slit contact可能form不好, 造成ESD robustness unstable,
/ |* M7 \5 @) U9 I% P+ S0 c這也是現實上要考量的. $ J3 x. N7 a) _7 x
5 ]+ C( c& ?! N. s
一般而言如要高效能ESD ability還是選用ESD circuit來保護比較safe8 o+ S5 @, k0 j& e; b4 `
不過有專利問題,這方面可能又要取捨了.
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