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mos管做esd时,为什么漏端到poly的距离大于源端?

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1#
發表於 2011-8-22 21:43:26 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
mos管做esd时,为什么漏端到poly的距离大于源端?麻烦大虾们解释下。。
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2#
 樓主| 發表於 2011-8-26 10:35:19 | 只看該作者
这上面人很少呀?没人发表下意见、、
3#
發表於 2011-8-30 15:54:08 | 只看該作者
http://bbs.innoing.com/thread-11820810-1-2.html   在本论坛有这方面的帖子,你可以看看去
4#
 樓主| 發表於 2011-8-31 09:21:55 | 只看該作者
回復 3# andrewxj * c; y* ~; S  {' F+ q8 I4 @" `
5 A! O4 b1 O3 i; u

- N6 c6 |- x) F+ X. F2 }: ?6 a    谢谢。。。
5#
發表於 2011-10-20 10:28:38 | 只看該作者
熟悉ESD也是Layout的基礎。
8 G) v, m$ R0 `% G
. c2 F! F5 Z1 H9 h% ^* xMOS承受ESD的一端必須要能承受ESD大電流的衝擊,所以承受端的R值就很重要: d8 {$ @9 j2 ?* ~
這也是除了會有較大rule以及必須要覆蓋上sillicde block的原因: v6 b8 H( }2 X7 b2 r; p

( h0 i! v- K2 z0 ]除了以上必要因素,部分foundry也會根據需也會在Drain再加入低濃度植入
6 c; J) w) A" E& R: y, ^- ^* a! b讓耐受ESD的效果更好
' @) N- i2 _5 v
' A! |; x- Z6 ~# x這是認識ESD的基礎概念,其中還有很多必須要去深讀的
3 S0 }% j; h* r8 B$ R8 x4 V7 k有機會大家可以多交流。
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