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[問題求助] 請問各位大大,關於MOS電容下極版問題

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1#
發表於 2010-4-12 18:07:01 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
若是NMOS做的電容  n9 V, p; a& h7 u& g
上極是版G極,絕緣層是薄氧化層,那下極版是基底還是N通道呢?我有查書說明有三種狀態
% G9 ]  a% x$ k! a1,通道未型成時' @2 ^: R% }3 F, `1 F/ F2 ]
2,三極管區. R/ j1 X$ ?3 k6 Q( L( R0 w# `
3,飽和區# g, n& N8 k3 {/ D/ k
但是RD通常叫我算POLY跟OXIDE重疊的面積就好
$ _  ~# |! N. E+ W4 I6 [+ o5 F這樣是操作在哪一狀態呢???
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2#
發表於 2010-5-3 20:21:49 | 只看該作者
3,飽和區4 @8 _5 y. j7 p2 P! u8 ?9 F
通常 depletion 都要形成,電容值才會穩定. J6 t; f, [) I# O$ {  O$ _& |1 h
所以使用的範圍 Vg 會超過 Vtn , + O' H/ R' d1 y4 M1 P+ e& I$ j; x3 b% `
如果想要使用雙向電容的話,可以用 barrier N+ , let mos always turn on.
3#
發表於 2010-5-5 10:56:09 | 只看該作者
通常應該是工作在  (2,三極管區),因為MOS電容的S,D,B三個腳位會是接在一起,Vgs=Vgd,所以是在三極管區,在電路設計上,MOS電容通常是由W和L的面積算出來的,但會非常不準,通常是用在穩壓用,而且在不同的電壓時,電容值會不同(Razavi的類比IC設計第二章),要大於Vth後電容值才會較穩定,且不適合當雙向電容使用(如OP的miller 補償電容)。
4#
發表於 2010-5-5 11:01:14 | 只看該作者
工作在反型层 状态
5#
發表於 2010-5-28 00:17:31 | 只看該作者
example for NMOS :+ b* g1 [1 k: P5 `/ e
Vg > Vth MOS at deep triode region, MOS Cap at strong inversion  e9 Z8 P- K5 U) n6 j; n6 U
Vg <Vth MOS OFF, MOS Cap at accumulation
! n( P9 {- I9 L! u4 T+ i. ^& U- Q4 [- w9 t
You can see Razavi Chap2 pp. 39
9 A% |$ d( X' _0 J; cGood Luck ~ !
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