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[問題求助] bjt 的 layout

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1#
發表於 2011-9-15 11:28:03 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問 PDK 中的 BJT 射極的部份
+ l2 G$ V. Y4 F6 g2 T! l- R; a
) q1 w* z. J% j) kCT 和 OD有一段距離
. [3 c0 ]" x5 H: V, Q2 K* l! X- m9 g2 F6 W; f+ P
留那段距離目的是為甚麼?
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2#
 樓主| 發表於 2011-9-16 14:22:27 | 只看該作者
我再補充一下問題
' \1 q2 V, K5 d5 I) P) C8 r5 d. Q3 Y5 I! h$ G
我的意思是射極上的CT 沒有打到最滿
+ j% M/ I5 j+ M. Z3 s
" R+ G4 _9 g7 I/ a) D1 A$ {. p離邊緣還可以打上3個左右
3#
發表於 2011-9-16 22:19:53 | 只看該作者
CT是哪一層layer?9 q0 Z! h9 h8 e4 p
NPN or PNP?
4#
發表於 2011-9-22 09:31:08 | 只看該作者
本帖最後由 CHIP321 於 2011-9-22 09:32 AM 編輯
% Y9 U- J  E# _8 u$ X9 S! O' U3 i) j
Cont 在CMOS兼容工艺中可能考量的不是太多,因为会在整个区域做saliside等硅化措施。但是如果要严格的说的话,cont的位置,cont的深度及结构本身是会对射级注入效率产生影响的。所以Desgin 需要遵循 DRC Rule,不能随意更改,另外你这里提到的估计应当是纵向管,接触位于射极中心,会减少射极的横向(侧边)注入,在不变更三层结结构,尺寸下,能额外提升发射极效率。很多BiCmos中会使用一个Contact来做射极连接。其他寄生还会有些利弊影响,可能不是主要考量因素。这是我暂时能想到的,供LZ参考,不当处请批判指正。
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