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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?! F% b8 e5 a& Z0 u2 C
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!$ O' F1 F$ R3 l3 i9 r2 N% B$ m
有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm
; a! @5 O# d0 ^4 H! s2 J7 v, H$ t如果會超過
3 h6 _+ A' t/ O% |那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
+ n" R" Q+ a  @% J% ?" C超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪4 @0 S3 v5 p0 d: g" C; s/ T
' F, J9 F; V, V
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080
' J  V: w) r2 A5 q) ~8 r' g+ b* M1 x' l+ Z( Z4 G: T
, w& V9 n5 c7 G$ `/ G5 t
   % v5 j. m+ R2 p! x* c* P2 A
 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
' U/ p& @8 D8 R$ b& l# `很可能打坏core里的device。  I: _" V  ~6 }, M
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
4 X  ~) ?# Z" A/ Z8 {- r9 z超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...1 z1 p4 ~: A. v7 z( {" {
scy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
; k$ p* Q% `6 y% w/ @
6 i% _% G5 Z3 Y2 ~8 [5 }
$ |3 _: Q4 U2 z$ A( ]# k% O' C
I/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
5 ]7 G( Y# C4 Y+ C8 p8 n% \$ m0 g7 f% o很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积/ v8 O. m1 ^; K' _) B
来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...! E; O- M* {5 W& E$ A3 ]
scy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM

% {# [4 `. l3 m. V- s/ v! h0 e9 L" x. I
拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),
% k: u8 i9 ?7 p+ f/ U其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管
) g; A9 f; |$ E(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
! X0 w, ]- s5 l. q. q  @- O  Unpn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
8 ?8 j3 \, C/ _! L% Z+ G必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小
0 Y( R7 e+ t$ U! K2 n" G暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!! a- f3 b% S, G- w( A; @
讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多1 ]# T, G6 k6 T" S

+ a4 i" m0 K1 \6 v' l謝謝大大的分享!!!!
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