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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?: q/ p- Y5 h: C
再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?' d  `4 K2 s0 \4 t7 ^5 g& U
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯
, ?& q# J3 N; C$ p( |
: X4 P! ^! f+ E1 O! ^& J  p9 }6 x9 X如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。* {& b' j* A- @+ H" }
會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。
' P( L/ b* y! j. B% N
" F- `0 G$ \; ^) h! SS/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外
( y; T: Q% E. [+ O. s也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。# \1 M$ \7 C' A  e

9 F, r/ p! e. u1 U8 Z0 {5 d這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...
; n! X8 H9 K4 c意思都差不多,我大概能了解了...# ], J3 H5 W4 v
至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?
7 y, Y  a  e0 s! f4 w1 y謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB' {% G% M' n- U8 {* a3 x1 v" _
不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白% ^% P1 m5 J3 R, x7 ?+ X
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,
8 {$ D0 x" Z3 i5 }  ]) ]SCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,
/ g  P, q0 r- X3 c: i2 X' }有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?
  h6 x- m& S$ u! m8 l知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次: N2 W1 c' p0 v+ e+ c
看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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