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[好康相報] <转>避免Antena该往上还是往下跳线

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1#
發表於 2011-11-29 23:49:54 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
<转自sinovale dot com>关于天线效应我在<浅析集成电路中闩锁效应和天线效应>一文中有提到过。天线效应的产生粗略的讲就是金属表面积累的电荷过多,但又无法形成对地的放电通路,结果很有可能是对栅氧造成破坏。由于现代工艺尺寸越来越先进,沟道长度越来越小,antena的问题就越来越受重视。通常,我们通过金属跳线或者在poly-gate旁边放置足够面积的diode可以避免天线效应的发生。但是金属该往上跳还是往下跳呢?" j8 ?9 I- h$ t

- R5 c7 V. e% w8 qProcess
9 T" N- {5 K6 {4 U% P3 e) l
% t7 L, l- v& y. ?; ?1 @我们都知道fab在做mask的时候是从低层往高层做的。process在每一道工序都有诸如平坦化,隔离等,之后肯定会有静电泄放的操作。从这个角度来说,假如metal3过大有antena的问题,我们用metal4对其跳线。在做metal3的mask时,metal3实际上分开的,只有做到metal4的时候他们才会连起来,而到metal4时,metal3的表面电荷已经由于工艺过程减少很多了;而如果用metal2对其跳线,在做metal3时,metal2和metal3是会相连的,并没有起到减少电荷的作用。
+ T) r5 H& J9 r; [8 l# O- t& k( t
7 J5 b* s0 C: I+ X9 j栅氧漏电,尽管对功耗不利,但对天线效应是有利的。栅氧漏电可以防止电荷积累达到击穿。所以,实际上可以看到薄的栅氧较厚栅氧不易发生损坏,因为当栅氧变薄,漏电是指数上升的,而击穿电压是线性下降的。
: L) r8 a1 w  h1 c6 ]0 h  e9 B2 q: {4 j2 y2 @
我常用的三个避免antena的方法
8 ~# C# E& L: Y/ K$ L0 I/ n/ A
; K- a& `( v6 Q! p. V1,跳线,而且最好是往上跳线
/ f9 j# l, A% k6 e8 N
4 B$ q- b  h2 T: b3 `( e: m( A2,增加NAC diode
2 j6 K8 i! Q& }: C: C. Q8 H1 b1 S0 n' p% S. f4 ?/ X
3,在信号线上加一组buffer,这个方法既可以规避antena,也可以为signal增加驱动
+ |& m8 |& y8 s6 e0 {8 {/ f  W; T
DRC
5 r0 a1 T0 m/ V! \3 Y
$ _6 K1 H2 ~. `7 ?% K9 X2 S$ i4 o; j一般来说command file会定义检查是否antena metal连到gate-poly上,还有是否面积过大。解决方法我建议是在靠近gate-poly的地方断开metal用高层metal跳一下,当然这在drc中可能不太好查,所以drc一般规定在发生antena的metal上有一个N-diode(最好是close to gate)。& M+ r6 p( X0 ]8 ?5 \
# U8 h% }* M0 \6 K* G% I
<转自sinovale dot com>第一次发帖请大家海涵。
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2#
發表於 2011-12-5 13:56:26 | 只看該作者
1.天线效应收集的电荷,要通过有源区泄放掉。必须是向上跳 向下跳无任何作用。只要跳上一层金属就可以。至于为什么你要去了解下工艺流程。金属是先溅射一片,然后刻蚀。
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