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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"
" J$ o, @: I- w5 l1 n1 N這種架構就類似於Diode-connected Transistor( b0 _# e5 ?8 c- b, f
二極體接法形式的電晶體6 P& U1 ^- f- M" F/ F3 Z0 O, r1 t
這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值" y# s v, c9 y5 a6 d
但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"5 b1 x/ _. n' `' X! D9 e& T0 G
公式的表示方法也不一樣
0 _2 s- r1 u0 G" G) t6 \操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的
- E2 F4 c( p& ?, D/ t; a# V9 [' k6 ]$ G: ~2 @; O; |0 `
而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起
* Y: o( [) l* N& c利用P-N junction的特性而已
8 d& z" g" o0 a* J! ~% E) N1 I6 q, [
所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction
8 q0 r7 I- s! f8 W/ i) g' N應該也會跟BJT做出來的有類似的效果- E( ^, a* D' \
* a8 s' |: X1 f: c, d
但是何者較穩定就不保證了: X+ Z3 ~' U$ W$ V
( ?: H5 ?8 N% q* U8 D( j, t- Z
因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference
- c v$ _. Y7 u7 G/ }' }它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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