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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路" D, G( t; e( r0 A
這種架構就類似於Diode-connected Transistor
% t8 n$ H' n5 V5 s, `二極體接法形式的電晶體* ?; V9 {# Y- v0 Z6 P1 A3 m* E
這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值2 `' K/ u* h) ~
但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"$ o% |& v# A1 Z* l7 S
公式的表示方法也不一樣: v# h" |1 |1 L
操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的
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4 h% t2 f" c& m& @ W, B! O- S而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起2 G# R& p/ {% E- [2 K
利用P-N junction的特性而已6 Y* v, k n4 N. x3 L4 i E
' d$ q s* ?# ^& ?; o, U/ R所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction
$ g% D# I- t! r2 q/ v( P+ U應該也會跟BJT做出來的有類似的效果
7 y m3 V, \3 v, y' _* d$ N7 m+ _: |# Z' `- w- I% _( N
但是何者較穩定就不保證了5 d- E* L4 Y" K4 I7 T* V; ]. G" s
$ {8 t6 C. A5 ~6 m' G, ~: V
因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference1 m! V1 H: Z2 K, B& _- D; V
它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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