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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"
& v# K; z' v5 q; f j& d這種架構就類似於Diode-connected Transistor
2 A5 Y) X' j5 U* R; R9 x二極體接法形式的電晶體
# ?& a3 i( C3 E這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值
0 `5 `1 f1 ?1 q6 o* i但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"- Y- _, ~: k% [& z8 Y: e
公式的表示方法也不一樣, z- X e E) z
操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的* P" y# |2 Z2 e v8 B0 q
5 p: O4 g2 [1 ?" [% |
而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起
7 b2 K' L" v% d3 [利用P-N junction的特性而已8 m/ U' g! f% t- {1 K: r( V
/ T: U' C/ s. V& H8 L% t, t. H, X所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction
4 @( s! H& w/ V4 @0 L* d應該也會跟BJT做出來的有類似的效果
2 a( P& B* A9 o5 `+ j. Z; _! c/ o# v- c
但是何者較穩定就不保證了6 e; X0 X' a! \
# R- B% q8 q( A% G2 X
因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference5 O8 S% I" R# B. s
它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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