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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?5 M( a+ h& |* D+ Y& n8 U5 r0 z
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!9 `# }2 {: _) k+ F' ~$ c
有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm
! f! e/ o0 `1 N6 A; a  _; z如果會超過
3 u: D8 `; t/ i那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
1 z2 R1 }) {6 a3 q超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪# o% L) R- c& m- K9 z1 m$ H
3 W; B2 k& |. L& L8 e
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080
7 H, g1 U" e! h7 b" e% d) B5 q5 R" a0 Y$ [% s/ w+ |' ?; v& c

2 l5 i5 L2 J3 J6 @   
7 q# y' k% F8 b+ f( I  w: K 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
$ R) ]8 H. {) \6 l! L' p2 ]9 a( @很可能打坏core里的device。) h$ l: h/ x2 }# V7 q& Y$ }$ K* A
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
# c  ?% p. u2 c0 R/ s超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...
' h3 k9 q& p) k$ Y/ l2 E7 ?# L; Ascy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
5 I/ `* n* W* S: M7 n7 C- S- g0 v2 d  E0 o
" ~. l3 ^0 L5 Y& `0 _
, \$ S1 I; h1 y( U$ t
I/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
! I1 `6 M9 V2 ^; r, u- [  n/ f很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
9 B/ W: ~% t$ M, B5 V来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...& V2 e# k4 U& N1 I6 ~' ?
scy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
0 ?0 U4 W/ [) |1 J0 e* \

5 c' r3 F7 m2 ^) K拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),8 j' @2 I* P% ?( {4 a
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管
2 _% x5 _! c: [- f(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
8 F  y# R: s2 h# h% M. dnpn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,0 e! |# A# O7 ]2 n3 b
必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小
/ F' S9 @! E0 R; t5 s暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

評分

參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!
# z2 Q6 N/ |/ q3 m! T讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多' E, }4 h/ _$ L! U

0 L1 o% l  o! Q3 k謝謝大大的分享!!!!
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