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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?5 V, w& h; _& U
再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?
8 }) ~; P& n" k5 \$ z知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯 : s, \; C6 O3 v- x) q: w% t
3 `( I+ c  _' D: Z' W) `  F
如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。/ U& M  [7 Q9 k, P. v4 r( F
會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。
$ u! M% j  n. x7 i' Q
+ _& F8 T' E( pS/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外* z9 Q! g; v2 O/ T
也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。8 y0 U  g/ h" }9 G. h- e

; ~3 h' q0 M; `- t& Q. v) M這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...) F: S0 o# ?6 J" K; o  u; S# L: Z
意思都差不多,我大概能了解了.... E3 F0 c! R. t  l$ T
至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?
- I& F/ T. ?$ R  u  a% g6 Q3 h謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB
  G6 @1 R. {) }/ |不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白
3 e0 I# n, R( u4 k  Q( T
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,* X4 i) a' @* ]3 P) Y- i. n
SCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,6 ]; [9 ~' J) U; z# F3 w
有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?' \8 q0 A8 z" ]* G- H
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次% [; F& y) A$ X7 I/ z  L( I
看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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