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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?
, K2 u0 S& M( P/ A( |$ L5 H) \再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?& x' N, S( w& y1 [) Q; t
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯 8 p6 [$ E0 L8 ]
% T* G+ m! E, P
如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。5 h! P6 z0 b8 Y) C# Q% H& W/ K
會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。
4 S0 Q. u) R) J$ z$ W% X' M2 i' h- @) F: {
S/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外
! V1 J" f7 a+ r8 M% ]: \9 m3 d也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。
+ L6 l( a& u( ^# M+ i' U: p: g
$ c; R& u3 S; t' O  t" e  f這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...; ?, {7 E7 [' e6 Z
意思都差不多,我大概能了解了...
5 v- I1 u9 N. i9 l. u至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?
- y3 @0 v9 i0 l0 t$ \: j0 ~! G0 z7 D謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB
7 ~& G; }5 S& Y不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白+ o  T+ \6 Z( n. m
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,3 }  ^1 q5 y6 j
SCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,3 G6 N1 s$ j- N0 w* D
有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?: S# K- [, \. {( {; M2 h9 j
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次" m8 o( n0 X( n- H) N
看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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