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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?0 j9 d5 Y- Q# X& N+ P
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!$ @, Z  t2 q' J& H  a
有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm, W4 W1 R9 m+ x1 G4 T- p0 Z
如果會超過
: {. }& z% g  l4 K& F$ V) k2 i" [( |" D那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢5 L6 }8 |0 S$ Q" N7 F, ?
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪$ I7 W7 L0 M  x/ d; f

9 D, c7 C! D9 ]" z$ s! y; W2 p[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080 ) ^- ^1 {2 V- E5 z3 a' |' Z

% E4 j1 m% H) e' p# Q6 L; F- F& h, W% S
   ) _1 h  O+ N" g' P: ^) Y) B
 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候9 B. y3 U9 J* l
很可能打坏core里的device。1 \6 o  f! {- n8 a- [5 r& |% o; n
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
- a8 W# @* _) o" w超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...
# X+ m) i4 Q3 [7 vscy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
! K# x" ]) h: @
8 b& n* H4 D2 J6 _5 l! f- f/ m5 R
+ l5 f: u/ R  ?
I/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是6 ], o8 @& z( Q' ]
很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
) r! H2 k; J8 a* v* \& s) Q来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...
/ ?. k0 [; m  X, o+ Zscy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
9 i4 y1 G4 o2 p' e0 A8 }/ T" t$ r% e" Y, j

6 \+ k6 l$ w0 Z; O# V1 v6 J拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),' u! |6 ^) b* O$ B* @
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管
! m+ w" A+ J" K5 G4 d(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
: {0 `4 L! c3 z' x- f3 `+ X0 o% ]npn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,; K- j8 N8 `4 I6 U+ W. O. ?
必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小1 [' |. Q3 Y6 ?( G' C8 u
暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!
5 M( O, A" w0 o8 E2 D4 A( F; b讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多
" i6 S: A# e3 c
, L0 m8 j1 U3 B4 a, j  q. u& A謝謝大大的分享!!!!
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