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[問題求助] 請問各位大大,關於MOS電容下極版問題

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1#
發表於 2010-4-12 18:07:01 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
若是NMOS做的電容
1 J( v# q5 ~6 k/ X; Q上極是版G極,絕緣層是薄氧化層,那下極版是基底還是N通道呢?我有查書說明有三種狀態3 y; Y# E( z1 ^6 j0 {$ a
1,通道未型成時  `  u# q, ?: d6 n
2,三極管區
0 U( W: Z: a+ `. h+ ~" t- J5 g* C3,飽和區0 ?) t" H+ w7 ]" U/ U4 u( M
但是RD通常叫我算POLY跟OXIDE重疊的面積就好% ?  j5 O! `, I% @! Z: b
這樣是操作在哪一狀態呢???
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2#
發表於 2010-5-3 20:21:49 | 只看該作者
3,飽和區8 {2 H* \* E) u/ i
通常 depletion 都要形成,電容值才會穩定
( }" I2 J. F; B' A8 V1 K# w+ y所以使用的範圍 Vg 會超過 Vtn , 9 u' D; C: e$ |1 S" f
如果想要使用雙向電容的話,可以用 barrier N+ , let mos always turn on.
3#
發表於 2010-5-5 10:56:09 | 只看該作者
通常應該是工作在  (2,三極管區),因為MOS電容的S,D,B三個腳位會是接在一起,Vgs=Vgd,所以是在三極管區,在電路設計上,MOS電容通常是由W和L的面積算出來的,但會非常不準,通常是用在穩壓用,而且在不同的電壓時,電容值會不同(Razavi的類比IC設計第二章),要大於Vth後電容值才會較穩定,且不適合當雙向電容使用(如OP的miller 補償電容)。
4#
發表於 2010-5-5 11:01:14 | 只看該作者
工作在反型层 状态
5#
發表於 2010-5-28 00:17:31 | 只看該作者
example for NMOS :
" x' K5 `3 _+ AVg > Vth MOS at deep triode region, MOS Cap at strong inversion' \" E1 e0 g6 \+ ^7 C7 n7 E
Vg <Vth MOS OFF, MOS Cap at accumulation6 I' x5 Q- e! o* z2 Z/ l
1 `1 @1 U1 _1 K) h  |- s1 ]; P5 ~! _
You can see Razavi Chap2 pp. 39/ |4 j. o) X, m
Good Luck ~ !
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