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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"
2 p5 e% n4 J( c2 N這種架構就類似於Diode-connected Transistor
$ D, I2 P$ v$ {4 d4 s) Y6 C二極體接法形式的電晶體7 L" k! y9 d- Z' o
這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值- x2 k: r4 w3 C9 { P
但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"2 s& X3 V. t0 |% _0 S9 L' ?
公式的表示方法也不一樣' V; F/ B, v8 G; t
操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的
# _* |/ U' t& S( a- z) W/ V& Z5 a/ J" L% [' S
而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起. F8 S0 P( L8 Z
利用P-N junction的特性而已$ H" p. ?: X6 }& Y* B8 m
4 t3 |$ h4 l d7 ~4 o+ p8 A- T
所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction
3 h5 |" s, g$ H% [2 Q7 e H應該也會跟BJT做出來的有類似的效果
6 b) B. g& M+ C( k% d; d2 }, h$ ], d+ w* Y- _1 @
但是何者較穩定就不保證了- B9 T/ m1 H; q0 L
( E" A: N& Z) I; a' _- L
因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference4 p# J1 q# T( m
它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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