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EV GROUP透過次世代步進重複奈米壓印微影系統 開啟靈敏且高效的生產微縮化 ...

2021-6-10 11:32 AM| 發佈者: SophieWeng@G| 查看: 212| 評論: 0|來自: EV GROUP

摘要: EV Group(EVG)宣布推出次世代的步進重複奈米壓印微影(NIL)系統EVG®770 NT,提供領先業界的疊層精準度與解析度,尺寸最高可以放大至300mm晶圓及第二代面板尺寸,可為擴增實境(AR)波導管、晶圓級光學技術(WLO ...
微機電系統(MEMS)、奈米科技與半導體市場的晶圓接合暨微影技術設備之領導廠商EV Group(EVG),今天宣布推出次世代的步進重複奈米壓印微影(NIL)系統EVG®770 NT。EVG770 NT可以為擴增實境(AR)波導管、晶圓級光學技術(WLO)及先進實驗室晶片元件量產使用的大面積母模加工,促成微型與奈米圖案的精準複製。在此之前,步進重複NIL的進一步開發與生產微縮化的需求,往往受限於較大面積上精準母模的可用性。借助EVG在NIL與步進重複母模累積數十年的經驗,EVG770 NT的設計旨在成為一套讓效能、生產力與製程控制性極大化的完全生產導向系統,並提供領先業界的疊層精準度與解析度,尺寸最高可以放大至300mm晶圓及第二代面板尺寸。因此,今後客戶可以實現量產、具成本效益與高保真度的NIL圖案成形。


圖一_EVG®770 NT步進重複奈米壓印微影系統

步進重複NIL的優勢

WLO為推動NIL普及的主要市場之一,其已經為消費性行動電子產品帶來全新的應用,從改良智慧型手機的數位相機自動對焦,以及提升智慧型手機安全性的人臉辨識,到AR與虛擬實境(VR)頭戴裝置使用的3D模型與影像增強。步進重複NIL藉由電子束或其它技術完成單一晶片母模,並在基板上進行多次複製以打造全面積的主模板與母模,以符合成本效益的生產WLO與微流控元件使用的微結構。如此產出的步進重複母模,可以用來生產供接下來晶圓級與面板級製造使用的工作模具。


能在面積越來越大的基板上複製較大母模的能力,可以讓我們同時生產更多的產品,也可以在不用拼接的情況下,生產較大型個別產品。與鑽石鑽孔、雷射直寫與電子束書寫等傳統母模加工製程相比,這種方法帶來顯著的良率與成本優勢。由於傳統母模加工製程的低產出量與高成本,導致更難以擴充到更大基板。結合步進重複製程可以促成效能最佳的晶片使用,也能更有效地將這些高品質圖案導入生產線。


圖二_針對晶圓級光學技術300mm步進重複母模特寫

EV Group企業技術總監Thomas Glinsner博士表示:「EV Group對於開發與完善我們的步進重複母模加工技術的投資已經超過十年,目的是將NIL製造的優勢帶到更廣泛的市場與應用。這項努力的成果為我們帶來了EVG770 NT,它補足並且成功橋接自由度微光學或高保真度奈米圖案成形,具成本效益的量產需求。借助這個突破性的步進重複解決方案,我們的客戶現在能夠打造自己的主模板,並將整個NIL製造流程導入企業內部,進而提供客戶更高的彈性與更短的生產製造周轉時間。對於新產品有意探索使用NIL或有少量生產需求的客戶,EVG在我們的NILPhotonics®技術中心提供步進重複母模加工服務,此技術中心是對客戶與合作夥伴開放使用的創新育成中心,可協助縮短創新的光電元件與應用之產品上市時程。」


效能與微縮性的突破

EVG770 NT包含多項功能,有助於製程開發與生產:

  • 最大可以在300mm晶圓與第二代(370x470mm)面板等基板上,進行最大達80mm x 80mm的單一鏡頭/ 晶片模板的無拼接複製
  • 250nm以內的對準精度與50nm以內的解析度
  • 促成工作模具量產流程,避免昂貴的原始模具磨損
  • 具更高能量的全新曝光光源設計,可大幅降低曝光時間
  • 檢測用顯微鏡與即時製程的相機訊號饋送,可隨時隨地驗證與監控製程結果
  • 非接觸的空氣承軸可以讓塵粒污染降至最低
  • 自動化基板裝載與模具更換單元,具備五個模具的儲存緩衝器
  • 壓印力量與脫膜力量的臨場控制與特性分析
  • 將軟體升級至EVG最新的Computer Integrated Manufacturing(CIM)框架平台,其廣泛用於EVG量產製程設備上

產品供應時程
EVG770 NT現已出貨給特定客戶,而EVG目前也開放接受全新系統的訂單。EVG在其總部內的NILPhotonics技術中心提供工具展示與新系統的步進重複母模服務。

EVG將參與SPIE Digital Optical Technologies
EVG將於6月21日至25日在線上舉行的SPIE Digital Optical Technologies論壇中,發表關於NIL在製造高折射率波導管中所帶來之益處的特邀論文。

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