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中微公司發佈用於深紫外LED量產的MOCVD設備Prismo HiT3™

2020-7-30 10:40 AM| 發佈者: SophieWeng@G| 查看: 100| 評論: 0|來自: 美通社

摘要: 中微半導體設備(上海)股份有限公司今日宣佈推出Prismo HiT3 TM MOCVD設備,主要用於深紫外LED量產。適用於高品質氮化鋁和高鋁化合材料生長的關鍵設備,反應室最高溫度可達1400度,具有優異的製程重複性、均勻性和低 ...
中微半導體設備(上海)股份有限公司今日宣佈推出Prismo HiT3TM MOCVD設備,主要用於深紫外LED量產。中微Prismo系列MOCVD設備目前已進入全球大多數領先的藍綠光LED製造商,此次推出的Prismo HiT3TM是中微Prismo系列MOCVD設備的最新產品。 該設備是適用於高品質氮化鋁和高鋁化合材料生長的關鍵設備,反應室最高溫度可達1400度,具有優異的製程重複性、均勻性和低缺陷率。該設備同時也為高產量而設計,單爐可生長18片2吋磊晶晶片,並可延伸到生長4吋晶片。

中微公司Prismo HiT3TM MOCVD設備早期的客戶包括國內領先的深紫外LED製造商馬鞍山傑生半導體有限公司,該公司的深紫外LED在家用、醫療和科技研究設備等領域有廣泛應用。

深紫外光幾十年前就被應用於工業和民用消毒殺菌領域。它通過破壞細菌和病毒的DNA使其喪失繁殖能力來發揮作用。深紫外LED被用於不同波長的殺菌燈中,且與傳統的汞燈相比對環境無污染。類似SARS、MERS和新冠病毒的出現使得深紫外LED產品的需求激增,深紫外LED產品可以消滅這些新生微生物。波長260-280nm的UVC波段的深紫外光就是目前該領域最先進的技術解決方案(例如傑生半導體的深紫外LED產品)。

中微公司設計的Prismo HiT3TM MOCVD設備具有新穎的反應室設計,能在高溫製程環境下生長高品質氮化鋁,且生產出的產品具有業內領先的高良率;同時具備較長的免保養間隔時間(MTBM),進一步延長正常運行時間並提高產能。真空自動化傳輸系統可以抑制微小顆粒的產生,並減少良率缺陷。自動化升降機構可方便維修操作並有效節省維修時間。

「我們現在已經看到了深紫外LED帶來的切實好處,它已成為消滅有害病原體的重要工具。」傑生半導體有限公司董事長康健說道,「隨著深紫外LED技術的持續發展,我們為能夠在公共和家庭消毒產品領域處於領先地位而感到自豪。中微公司設計的Prismo HiT3TM MOCVD設備可以滿足深紫外LED量產、低生產成本的製造需求。中微公司憑藉其世界一流的製程技術和高性能的MOCVD設備解決方案,是值得信賴的合作夥伴。」

「中微自主研發的Prismo HiT3TM MOCVD設備延續了我們現有Prismo平臺已驗證的主要創新功能,並提升了可在高溫製程環境下生長氮化鋁基材的性能,使之拓展到深紫外LED的應用。」中微公司執行副總裁兼首席運營官杜志游博士說道,「傑生半導體始終致力於持續發展LED技術並創造有益於人類健康的產品,我們很高興傑生成為我們的早期使用者,同時也很榮幸我們的設備解決方案能夠幫助客戶研發下一代深紫外LED產品,並在技術研發和成本控制上幫助客戶達成目標。」

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